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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PRプロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト
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上下フライホイルの軸受交換を4年/回のみでメンテ費用が殆ど発生しません…
『フライホイル式UPS』は、通電時7,700rpmで回転し、電源遮断時に惰性の エネルギーにより、電力を供給します。 構造がシンプルかつ原始的であり、不測の事態時にプロセスへ確実に 電源供給することが可能。 上下フライホイルの軸受交換を4年/回のみでメンテ費用が殆ど発生せず、 有害物質を有しておらず環境に配慮したシステムです。 【特長】 ■不測の事...
メーカー・取り扱い企業: クリーンテクノス株式会社
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プレドープ技術とは何か?PASL電池に何故プレドープが必要だったのかに…
そしてPASL電池に何故プレドープが必要だったのかについてご紹介します。 続きは、関連リンクをご覧ください。 【掲載内容】 ■予め負極のみを充電するプレドープ ■プレドープの製造プロセスとメカニズム ■なぜプレドープが必要だったのか ■プレドープを使った蓄電デバイスのデビュー ※ブログの詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 武蔵エナジーソリューションズ株式会社
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