プロセス | イプロスものづくり

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メーカー・取扱い企業

Micro Point Pro（マイクロポイントプロ）株式会社

PRウェッジボンディングツールをはじめ、世界で9000台以上の実績を持つ卓…

Micro Point Pro（マイクロポイントプロ）株式会社は、設立から40年の経験と専門知識を保有し、半導体およびマイクロ電子デバイスアセンブリ業界向けの商材を幅広く取り扱っています。イスラエルに拠点を構え、150名の従業員とグループ企業600名の従業員がサポート。 MPPでは原材料から完成品まで全ての製造プロセスがあり、多くのグローバル企業との実績も多数ございます。【取扱製品】 ■...
メーカー・取り扱い企業： Micro Point Pro ltd株式会社本社
コリオリ式マスフローコントローラ/メータ　Quantimシリーズ

PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準！幅広い流量レンジで液体・ガス…

『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、低流量の測定が可能。その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社
【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

させる機能が含むチャンバ、パッシベーション膜前の自然酸化膜除去する為の水素(H2)プラズマクリーニングチャンバ等を含む事も可能です。ウエハは、高真空条件下でチャンバーからチャンバーへと移動し、プロセス全体を通して清浄度が維持されています。お客様のご要望とプロセス時間等に応じて、プロセスチャンバーを追加することができます。...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社
原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社
クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ペクト比サンプル（最大1：2500）〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種＜処理温度と容量＞〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WT...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
GaN半導体 MOCVD用機能部品

高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ…

■超高温ヒータ・超高温（1500℃以上）での使用が可能・腐食性ガス雰囲気に耐性がある・色々な形状にも対応でき、設計の自由度が高い ■その他機能部品・MOCVD、HVPEなどの高温プロセスに対応・客先仕様に応じての専用設計 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業：モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社
『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中

半導体材料メーカー様　必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の…

250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー
【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

・SiC3（炭化珪素）コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティンググラファイト Max1900℃ 高純度・耐熱性・高耐蝕性を要求される過酷なプロセス環境にも対応するハイスペック基板加熱ステージ。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
撥水コーティング装置テスト受付中

プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…

エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。実績と対応のプラズマ表面処理装置...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD）

ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…

になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はありません。また、プロセス・ノウハウもメーカはあるので、レシピに関する情報も提供可能です。デモ成膜も行っていますので、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー
Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社
常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。【特徴】 ○高スループット性 ○優れた成膜特性 ○メンテナンス性 ○金属汚染低減(オプション対応) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてく...

メーカー・取り扱い企業：株式会社天谷製作所
【MPCVD】単結晶ラボグロウンダイヤモンド

商業的使用に好適！非常に安定性があり、予測可能な特性と挙動を持っていま…

れている単結晶ダイヤモンド製品の製造において、世界でも早いCVD会社の一つです。マイクロ波プラズマ化学気相成長法(MPCVD)は、80年前から実用化されてきて、ここ7-8年で顕著なプロセスになってきました。 MPCVDは、純粋で高速なダイヤモンド蒸着プロセスであり、それ故に商業的使用に好適。ダイヤモンドエレメントの単結晶ラボで成長したダイヤモンドの品質は、非常...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN
CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

ン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。【特長】 ■FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載 ■PLUMEシリーズのICPプラズマソースを搭載可能 ■ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

ータ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社
真空成膜装置・高真空装置

お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の...

メーカー・取り扱い企業：西華デジタルイメージ株式会社
乾式除害装置(MAKシリーズ)

大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

【幅広い対応範囲】　各種処理剤がラインナップされており、各種プロセスの排気ガスに　最も適した処理剤の選定ができます。　また、弊社横浜研究所の現地分析により、　フィールドでの排気分析結果に基づいた処理剤設計も可能です。【低圧損】　圧力損失の少...
メーカー・取り扱い企業：株式会社巴商会管理部署：企画営業部
常圧CVD装置

省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールか…

本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波,低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成されます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インターテック販売東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
空圧機器用サイレンサー【焼結金属フィルター用途事例】

・標準サイズの製品が多数・Easy installation 簡単設置…

イレンサーは、圧縮空気をいつでも大気に放出できるように空圧機器に取り付けます。ブロンズ製サイレンサーは、最大20デシベルまでノイズを減らすことができます。素　　材：ステンレス、ブロンズ プロセス：フィルター ■アプリケーション詳細・OEMやスペアパーツとして使用・標準スレッドによる取付け・海洋などの腐食環境では、　ステンレス材を使用 ■長所・標準サ...

メーカー・取り扱い企業：ダイアエンタプライズ株式会社本社
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。 AMAX800Vは、8インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり100枚の成膜が可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

す。特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/Ga...
メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社
プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。 AMAX1200は、12インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、他のソフトウエアにはないカスタマ...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社
原子層堆積（ALD）デモ成膜/導入サポート

原子層堆積（ALD）プロセス装置の老舗、PICOSUNによるコンサルテ…

・アプリケーションに応じた豊富なプロセス事例・カスタマイズ工程の開発検討・デモサービスのご提案・その他コンサルティングサービス...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

● 反応副生成ガスにも対応　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン　集合表示灯及びタッチパネル（オプション）、シ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社巴商会管理部署：企画営業部
直流電源

熟練したリターン技術による、安定放電が可能な直流(充電）電源です。

直流(充電）電源です。真空プロセスから、各種バイアス用電源、集塵機などにも採用されている電源です。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部
真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

です。静電容量の変化を検知して、リニアな直流電圧信号に変換し出力します。温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ■接ガス部にインコネルを採用 ■CEマーク対応／RoHS準拠 ■接続継手の選択が可能 ※『7...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
ポーラスシリコン形成装置（陽極酸化装置）

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

ました。 ■N型、P型両方に対応出来ます。 ■2～6インチまで各種サイズ対応いたします。8インチ以上はご相談ください。ナノシリコン技術としてバイオメディカル・二次電池・太陽電池・半導体プロセス分野の新用途開発にも可能性が広がります。 ※孔の直径やポーラスシリコン層の厚さはご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダルトン
SiCウェハボート

高温での使用が可能で1350℃まで対応可能！主要装置メーカーの認定を取…

【用途】拡散／LP-CVDプロセス用ウェーハキャリア【材料】高純度反応焼結炭化ケイ素　TPSS...

メーカー・取り扱い企業：クアーズテック株式会社
300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

PICOSUN Sprinter ALDシステムは半導体、ディスプレイ、IoT等の業界における 300 mm製造ラインで活躍するバッチALD生産システムです。 SEMI S2 / S8認定のPICOSUN Sprinterは、枚葉成膜の品質と均一性を高速処理、高スループット、高信頼性と組み合わせています。処理時間が短く、熱負荷が抑えられるため、破損しやすい基板材料やデバイスにも理...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
真空蒸着フィラメント、ボート

少量パックのオンライン販売で必要な分を必要なときに！

真空蒸着装置に使われるフィラメント、ボート。真空機構の部品オーダーメイド部品。液晶、半導体製造プロセスに使われる消耗部品、特注冶工具。...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ビット･テック
真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

関連装置・有機ＥＬ、ＦＰＤ、太陽電池、他設備の設計製作【図面支給による製作】・部品加工、購入、組立、調整、検査、据付調整・量産装置向け組立、調整、検査、据付調整【半導体プロセス応用製品】・実験用蒸着装置・有機ＥＬ蒸着基板用実験装置・スパッタ装置(実験設備/生産設備)・ＣＶＤ装置(実験設備/生産設備)・成膜装置(実験設備/生産設備) 【真空対応製品の設計・製作】...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コスモ・サイエンス
Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ（MFC）とデジタルマスフローメーター（MFM）は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社
MOCVD装置　VEECO K465i G2用排気フィルター

MOCVD装置　VEECO　K465i G2

メリカＲＡＮＤ社の高級耐高温不織布と中国産ＳＵＳ３０４を構成した製品、不織布材料はアメリカから直接輸入、耐高温、耐高圧、高精度、ろ過効果がいいなどの特徴があり、K465i G２シリーズは2回ろ過プロセスを採用、ろ過チャンバーの長さを十分利用できる。アメリカから輸入したガラス繊維ろ紙を使用、隙間分部が均一、ろ紙厚く、透過性よく、差圧低く、MOCVD装置の保護機能もある。優れる強度があり...

メーカー・取り扱い企業：愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社
枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

【仕様(一部)】 ■サイズ：890mm(W)×2300mm(D)×2250mm(H) ■膜厚均一性：≦±2％(面内、面間) ■温度：300℃～450℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃) ■対応ウェーハサイズ：8インチまで可能 ■スループット(参考値)：14枚/hour(500nm成膜時) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社天谷製作所
工業用断熱材【耐熱耐食に優れたPTFEを使用】

配管ヒーター、シリンダー等の熱を逃がさない！電力削減やCO2を削減！用…

繊維を用いた高度な縫製技術によって作られています。半導体・樹脂成型・食品・医療関係で使用可能な、耐熱耐食にすぐれたPTFEを表面材質に選定し、縫製にて製作しております。 ■断熱用途例 プロセスチャンバー、配管ヒータ、射出成形シリンダー、食品加熱ラインetc... ■製作例・小型形状各種・ブロック異型用各種・クランプ各種・大型ゲート弁用・R配管用・角形ブロッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社シンワバネス
粒子用 ALD （原子層堆積）装置 / FORGE NANO社

粒子専用のALD（原子層堆積 Atomic Layer Deposit…

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。　 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■３種類の容量のリアクターサイズ ■複数のプレカーサーを個別に温度コントロール ■多様な粒子材料へ多様な膜の成膜が可能 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー
耐プラズマ性OリングフロロパワーDPR (特殊フッ素ゴム)

Oリングの桜シールによる配合材無使用の特殊（フッ素ゴム+フッ素樹脂）材…

優秀な耐プラズマ性を有しながらコスト優位性の高い特殊材質です。配合剤を使用していないことから低パーティクル性に優れ、半導体や液晶関連機器などのドライプロセスに於いて、優秀な耐プラズマ性を発揮します。ノンフィラータイプの耐熱パーフロ材質「フロロパワーFFN（FFKM-耐プラズマ）」の下位互換として有効です。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規...

メーカー・取り扱い企業：桜シール株式会社日本本社
プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間絶縁膜などの均一性とステップカバレージに優れた形成が可能です。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社
ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の　間隔調整によるプロセスの最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
CVDコーティング装置

どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装置【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを　2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な　自動プロセッサーによって監視され　さらに制御及び調節装置を装備 ○ガス供給装置を、綿密でコンパクトに装備 ●より詳しい掲載内容につきまして...

メーカー・取り扱い企業：中日本炉工業株式会社
三菱電線工業の耐熱ふっ素ゴムシール「サンエラストＫ」

長期耐久性に優れたふっ素ゴム！！従来のふっ素ゴムに比べ高温（200〜2…

●近年、工業製品の特殊化が進み、それを製造するための　工程条件もますます過酷になってきました。 ●従来よりも高温でのプロセスも増えてきており、シール材料も　高温耐久性に優れるものが要求されてきております。 ●「サンエラストＫ」は、従来材料よりも高温（200〜220℃）での　長期耐久性に優れるふっ素ゴムです...

メーカー・取り扱い企業：三菱電線工業株式会社
【資料】パワーデバイス用GaNのトレンチ加工

これまでの加工実績をベースに行ったGaNのトレンチ加工をご紹介します

当社は半導体製造装置メーカーとして、GaN系発光デバイス製造における ICPエッチング装置、CVD装置及びプロセス技術を提供してきた実績があります。また、4H-SiCパワーデバイスに対してもトレンチ加工、メサ加工等に対応できる装置を提供。当資料では、これまでの加工実績をベースに行ったGaN...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社