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JUKI新製品公開!6/12~14実装プロセステクノロジー展出展
PRJUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産…
JUKIは6/12(水)~6/14(金)に東京ビッグサイトにて開催される 「第25回 実装プロセステクノロジー展」に出展いたします。 今回の実装プロセステクノロジー展では、 JUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産プロセスの実現でお客様の課題を解決」 をテーマに、プラネットヘッドP20Sを加えた「高速フレキシブルマウンタ LX-8」をはじめ、 世界初公開...
メーカー・取り扱い企業: JUKI株式会社
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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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省スペース+省電力で発生量増加を実現!1m3辺りの消費電力を最大26.…
『NE-IIシリーズ』は、20-180Nm3/hの発生量をコンパクトな筐体設計で可能 とし、プロセスの改良により、窒素発生量を従来機種比で約36.5%アップした 省エネ型窒素ガス発生装置です。 パネル扉の採用により、前後左右のメンテナンススペースが600mmのみで、 余分な設置スペース...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社弘輝テック 本社
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コンプレッサ内蔵型窒素ガス発生装置『N2 IMPACT II』
窒素ガスの使用量により、最大49%の電力を削滅!駆動電力の大幅な削減が…
により、駆動電力の大幅な削減が 可能になったコンプレッサ内蔵型窒素ガス発生装置です。 従来機種ではN2ガス使用量が減少しても駆動電力は一定でしたが、当シリーズ ではN2ガスの使用量と制御プロセスを無段階に自動演算する事で、使用流量に 応じた省エネ運転が選択可能に。 N2発生プロセスの改良により、既存シリーズと同じモータ出力のコンプレッサ を使用し、N2ガスの発生量を最大27.3...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社弘輝テック 本社
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JPCA Show 実装プロセステクノロジー展 出展のご案内
実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミス…
ダイナトロン株式会社 -
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INNOOV(イノーブ)株式会社 東京 -
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日本ゴア合同会社 -
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株式会社テクノカシワ