【資料】道路照明柱のアンカーボルトへの適用

PR保全コスト低減・人手不足解消！橋梁などで実績のある犠牲陽極防食方式と被…

当資料では、「RFIDゆるみ検知機能付き犠牲陽極防食システム」について ご紹介しております。 システムの概要や従来技術との比較、特長などについて図・表・写真を 用いて詳しく掲載。 また、導入効果についても掲載しておりますので是非ご一読ください。 【掲載内容】 ■システムの概要 ■新技術開発の背景 ■高速道路等の鋼構造物の損傷調査例 ■従来技術と新技術の比較 ■新技術...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社内村

見にくい画像を見やすく処理【画像鮮明化技術】

PR暗部補正・クラックの強調など、静止画・動画を見やすく処理する『画像鮮明…

当社の「画像鮮明化システム DuraVision EVS1VX」・「画像鮮明化ソフトウェア」は、 静止画・動画を鮮明化し、見にくい画像を見やすくする製品です。 ＜画像鮮明化システム＞ カメラやビデオレコーダーなどとHDMIケーブルで接続するだけで、 リアルタイムで画像処理を行うハードウェア製品 ＜画像鮮明化ソフトウェア＞ 鮮明化したファイルを自動生成するソフトウェアで、外部システムに組込みが可能...

メーカー・取り扱い企業： EIZO株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社