• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も 製品画像

    『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

    PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに!初心者にもわかりやすく解…

    「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない(材料・条件による) ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

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    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • アズピュアスーパーワイパー(エコノ)『ASシリーズ』 製品画像

    アズピュアスーパーワイパー(エコノ)『ASシリーズ』

    発塵・蒸発残留物・残留イオンを抑えたクリーンルーム向けワイパー

    進では、様々なクリーンルーム用アイテム販売を行っております。 『ASシリーズ』は、発塵・蒸発残留物・残留イオンを抑えた クリーンルーム向けワイパーです。 クリーンルーム内で高純度の純水洗浄を行い、パーティクルと 残留イオンの混入を低減しています。 当社では、自社工場で使用する高品質・低価格なオリジナルウェアを 中心にして、クリーンルームで使用する手袋や、ウェア、小物など、 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社菱進

  • アズピュアニトリル手袋II ピュアパック 全面エンボス 製品画像

    アズピュアニトリル手袋II ピュアパック 全面エンボス

    静電気拡散性を有し、耐久性に優れるクリーンルーム向けゴム手袋

    す。 お客様のご要望・ご予算に合わせて柔軟に対応しておりますので、 お気軽にご相談ください。 【共通仕様】 ■区分:薄手・使い捨て手袋 ■材質:ニトリルゴム ■パウダー:無 ■洗浄・滅菌:純水洗浄 ■左右別・兼用:兼用 ■全面エンボス加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社菱進

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