• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】 製品画像

    フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

    PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

    本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

  • 電子制御メカニカルシャッター 製品画像

    電子制御メカニカルシャッター

    電子制御メカニカルシャッター

    。 ◆各種取付けマウントに対応 −接続用には各種マウントを取り揃えており、ビデオ用(Cマウント他)から顕微鏡用(オリンパス/ニコン/Zaiss/Leica)まで幅広く対応可能です。 ◆真空対応可能 −低〜中真空に対応可能です。(オプション)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アド・サイエンス

  • 電子制御メカニカルシャッター[X線用] 製品画像

    電子制御メカニカルシャッター[X線用]

    X線スイッチング・X線イメージング・X線顕微鏡 など

    下(@30KeV)に抑えます。 ◆SYNC機能による高精度な露光制御 −シャッターブレードの開閉を検知し、フィードバック信号を外部出力するSYNC機能は、より高度な露光制御を可能にします。 ◆真空対応可能 −低〜中真空に対応可能です。(オプション)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アド・サイエンス

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