• 基板設計・実装・組立サービスのご提案 製品画像

    基板設計・実装・組立サービスのご提案

    PR設計から実装・検査・出荷まで柔軟に対応します。 さまざまなメーカーの…

    「ヨーホー電子では、設計・基板実装・組立を通して、 お客様と共に新たな価値を創造します」 当社独自の基板実装ノウハウと確かな設計技術を基に、部品調達、ディスクリート実装、表面実装、製品組立、各種検査などさまざまな作業のご要望に対応します。 設計では、実装ノウハウを生かした作りやすさ重視の設計に対応しています。 実装では、小型高密度基板、大型制御基板、電源系基板など、さまざまなタイプの基...

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    メーカー・取り扱い企業: ヨーホー電子株式会社

  • 私たちの暮らしに寄り添うプラスチック溶着技術【技術資料進呈】 製品画像

    私たちの暮らしに寄り添うプラスチック溶着技術【技術資料進呈】

    PR超音波溶着技術は低エネルギーかつ低コストで成型品を溶着・加工することが…

    当資料では、精電舎電子工業株式会社が長年にわたり開発してきた、多彩な溶着技術をご紹介しております。 超音波振動の原理をはじめ、超音波溶着機の基本構成、溶着事例、また、 高周波誘導加熱の原理や高周波ウェルダーの基本構成などについても解説。 当社が誇る超音波、高周波、レーザを用いた溶着・加工技術は、これまでに多くの業界や業種で採用されてきました。 【掲載内容(抜粋)】 ■1.私たちの技術は、日常...

    メーカー・取り扱い企業: 精電舎電子工業株式会社 本社、柏工場、営業所(仙台、北関東、東京、湘南、名古屋、大阪、広島、福岡)、室蘭事務所

  • 【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法 製品画像

    【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法

    コンタミネーション洗浄に着目!先端電子部品の性能を担保しうる「洗浄」の…

    当資料は、先端電子部品の洗浄や洗浄後の分析方法について解説しております。 フラックス洗浄工程を筆頭とする接合後のコンタミネーション洗浄に 着目し、様々な技術の集合体である先端電子部品の性能を担保しうる 「洗...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証 製品画像

    【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証

    洗浄方法・洗浄剤には抜本的な変革が求められています!洗浄ノウハウをご紹…

    スマートフォンをはじめとする5G対応通信機器やEV向けの制御ユニット等に みられる先進電子デバイスは小型化・薄層化が進んでおり、それに伴い 微細接合向けはんだペーストの開発がより活況を見せています。 このような電子デバイスは長期的な高信頼性が求められ、フラックス洗浄が 必要となる場合も...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証 製品画像

    【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証

    ギ酸リフローについて詳しく解説!洗浄ノウハウをご紹介します

    バイスの分野では、ボイドの発生を抑えられ、低温域で接合できる 利点が大きいギ酸リフロー方式によるはんだ付けが広まりつつあります。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響 製品画像

    はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響

    【共同研究】形態変化と洗浄性への影響を共同研究!詳しい解説と画像でご紹…

    出力パワーデバイスなどの分野では発生する熱量が大きく、環境的負荷が 増すことで、安定化しているフラックス残渣であっても、長期にわたる 経年変化を注視する必要があります。 昨今の市場トレンドで高機能電子デバイスは小型化により部品間の距離が 狭まり、短時間での高速演算や容量アップに伴い大電流・高電圧と なった事で、以前は問題とならなかった僅かなフラックス残渣であっても、 様々な問題を引き起こすリスク...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴 製品画像

    溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

    イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

    いて 不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。 近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・ 大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスの フラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤が広く使われています。 しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、 溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~ 製品画像

    【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~

    困難さが増しているイオン残留課題について!洗浄ノウハウをご紹介

    あるシンターも本格的に量産稼働の動きが 見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。 今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の 活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な 存在となります。 また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カリウムを イオン性物質として使用する新型半導体の研究も進められており、 より活性力を高めた新たな活...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】実装部品とイオン残渣の関係性 製品画像

    【共同研究】実装部品とイオン残渣の関係性

    洗浄用はんだペースト・フラックスを選択することでより確実な洗浄性の確保…

    今回のテーマであるイオンは電子デバイスに不可欠ではありますが、 意図しないイオンがデバイス表面や電極間・低スタンドオフに 残留することで「イオン残渣」となります。 また、原料要因だけでなく環境要因も含め多岐に渡る混入経路から ...

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