• ビッカース硬さ試験機 FALCON500G2 製品画像

    ビッカース硬さ試験機 FALCON500G2

    PRFALCON 500G2はマイクロ、マクロビッカース、ヌープ、ブリネル…

    FALCON 500G2は、様々な要求に応える幅広い試験力構成の選択肢を持ち、ハードウェアを完全に統合することで、お客様の業界特有の試験タスクに確実に適合させることが可能です。 最高レベルのメカニカルデザインから生まれたベースユニットのロードセル、クローズドループシステムは、マニュアルまたはデジタルマイクロメータ、あるいはより快適な試験環境を実現するモーター駆動のCNCステージと組み合わせて完成さ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イノバテスト・ジャパン 本社

  • 耐熱ホース CPシリーズ 製品画像

    耐熱ホース CPシリーズ

    PR耐熱最高1,100℃!耐高温、耐摩耗、ケミカル耐性に優れたフレキシブル…

    耐熱ホース「CPシリーズ」は最高1,100℃の高温排気ガスに対応可能なフレキシブルホースをはじめ多数製品を揃え、エンジン試験・車両試験・高温炉や鋼管ジョイント部での使用など多様なシーンで活躍しています。...・耐高温性、耐炎性に優れた耐熱用ホース ・スチールガイドをらせん状に編み込み、耐摩耗性の向上(引きずりに強い)を実現 ・独自の技術により、ホースとスチールガイド間の抗張力性の向上を実現(脱落し...

    メーカー・取り扱い企業: エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch) ◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御:...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    ◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発な...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    ド + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

    真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

    ◆成膜源◆ ・Φ2inchマグネトロンスパッタカソード x 1 ・抵抗加熱蒸着源(最大2) ・有機蒸着源(最大2) ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー(特注ホルダー 応相談) ◆膜厚センサー◆】 ・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・Intell...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

    ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    0℃, 試料最大温度Max950℃ ・小片試料:数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応 ・基板枚数:1〜3枚程度 ・石英サセプタ手動昇降式:停止位置目盛、クランパ付き ・炉芯管:Φ100 x Φ95 x 470L mm ・昇降:手動回転ハンドル ・温度調節:PIDプログラム温度調節計 ・熱電対:2対式K熱電対x1(制御用、過昇温用)、Kタイプ素線(炉芯測温用)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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