• 新製品 二液混合ディスペンサー 「ID-200R」 製品画像

    新製品 二液混合ディスペンサー 「ID-200R」

    PR2液混合に必要とされる機能が充実した2液混合ディスペンサー 吐出量、混…

    定量安定性のあるMGPマイクロギヤポンプを、5相ステッピングモーターで駆動し、2液吐出用に専用設計された 制御部によって高精度な混合吐出を実現した2液用ディスペンサ-です。 混合部ローターの形状や容積、回転数などから、最適な条件を選べるカートリッジ方式強制混合タイプミキサーです。 本装置は微少量吐出が要求される2液性接着剤等のシール工程などに適しています。 特長 取り込んだポンプの基礎データを基に...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本省力技術研究所 

  • 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』 製品画像

    DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

    最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

    『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • ピラニ真空計 PG-20 製品画像

    ピラニ真空計 PG-20

    小型なボディで装置組込みの省スペース化!

    .0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の測定範囲  ●故障に強い定温度型  ●小型なボディーで省スペース化が可能 (仕様) ・出力信号 :a)制御出力 リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax           b)アナログ出力 0?5V F.S. (1V/1桁) 出力インピーダンス1KΩ ・使用温湿度 :5?40℃、?90%(結露なしで) ・電源PG-2...

    メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch) ◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御:...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    ン膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策  ・シンプルメンテナンス ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 電子グレードCVD 製品画像

    電子グレードCVD

    横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm!電子グ…

    な努力が、放射線治療用線量計などの 医療分野に方向性を与えていくことでしょう。 【仕様と公差】 ■横の許容:+0.2/0-0mm ■結晶方位(ミスカット):+/-3° ■結晶学:通常100%シングルセクター{100} ■エッジ:レーザーカット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN

  • 半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯 製品画像

    半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯

    半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯

    新開発 半導体式マイクロ波電源 5.8GHz帯 130W 電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工機株式会社 第1機器部

  • 放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド 製品画像

    放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド

    3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

    10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ■厚さ:+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカット) :+/-3° ■結晶学:通常100%シングルセクター {100} ■エッジ:<0.2mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN

  • ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 製品画像

    ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】  ・低温(150~300℃)成膜  ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜  ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト)  ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーテ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 定温度型ピラニゲージコントローラ PG-30 製品画像

    定温度型ピラニゲージコントローラ PG-30

    熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

    .0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の測定範囲  ・故障に強い定温度型  ・小型なボディーで省スペース化が可能 (仕様) ・出力信号 :a)制御出力 リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax           b)アナログ出力 0?5V F.S. (1V/1桁) 出力インピーダンス1KΩ ・使用温湿度 :5?40℃、?90%(結露なしで) ・電源:DC2...

    メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社

  • 高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ 製品画像

    高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

    高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

    ) ○許容温度範囲: -30℃〜+50℃ ○エネルギー散逸: 最大0.5% (@1kHz) ○絶縁試験: 下記DCテスト電圧にて10秒間 ○絶縁抵抗: 20,000MΩ(最小値:@100VDC) ○温度係数: N5500(±1000ppm/℃) ○端子強度: 最大トルク・・20[inch・lbs] ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コムクラフト

  • RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター 製品画像

    RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

    各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

    (CVD, MBE, PVD等)や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等)に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能 6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能 7) 高い安定性とアライメントフリー測定を実現 8) 白色光源の採用...

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    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 【大阪アルミ加工】マシニング加工 半導体製造装置の精密加工 製品画像

    【大阪アルミ加工】マシニング加工 半導体製造装置の精密加工

    半導体製造装置 フライス加工 アルミ精密部品  【コストダウンはフィ…

    ♦材質 A5052 (アルミ) ♦業界 半導体製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 ♦表面処理 白アルマイト処理 (日本国内) ♦個数 1~100個 ♦説明 マシニングセンタでの加工で短納期で対応させて頂きました。 公差穴はボーリング加工方法 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホーム...

    メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社

  • 真空センサ『730シリーズ』 製品画像

    真空センサ『730シリーズ』

    コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

    【仕様】 ◎圧力範囲:0~1kPaから0~100kPa ◎精度:±0.5%読み値(±0.25%オプション) ◎補償温度:0~50℃ ◎使用電源:DC12~30V ◎長期安定性:±0.5%FS/年 ◎応答性:20msec ◎過負荷耐圧...

    メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部

  • CVD装置『ナノカーボン堆積装置』 製品画像

    CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

    3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください

    800℃、8インチ基板×1枚 <PNナノカーボン堆積装置(NCD-050W)> ■プラズマ源  ・水素ラジカル注入用:マイクロ波2.45GHz・1KW・SWP  ・メインプラズマ用:VHF100MHz・1kW・CCPシャワーヘッド ■チャンバー:SUS304、架台 ■基板ステージ:800℃、2インチ基板×1枚、上下ベローズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像

    常圧CVD装置「AMAX800V」

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    ○温度:350℃ ~430℃(オゾンプロセスでは150℃~350℃ ) ○対応ウェーハサイズ:8インチ  (8インチ・6インチウェーハサイズの兼用化はオプション対応) ○スループット:~100枚/hour(@5000Å) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所

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