非接触赤外線放射温度計　 L−1000シリーズ

PRガラス越しの温度測定が可能。操作簡単。シンプル且つ特別な光ファイバー式…

簡単操作のなかで、その瞬間の温度を設定値に捕らえようとするアラーム機能が搭載された、赤外線放射温度計です。通常の操作による変更はもちろん、L-1000の特徴とも言えるＤ・ＳＥＴキーによりダイレクトに設定値（アラームＨｉ）を登録することができます。変更の煩わしさから解放されます。(ビーム機能を除いてＬＯＣＫ状態で設定値を保護します。) 140～3000℃をシリーズで測定可能。 【特長】 ■ガラ...

メーカー・取り扱い企業： レック株式会社

半導体分野向け比抵抗計『UPW UniCondセンサ』

PR±0.5％以下の測定精度で、水質管理の信頼性を向上。評価結果などの紹介…

『UPW UniCondセンサ』は、大手半導体メーカーとの共同開発により 堅牢な構造と高度な温度補正機能を備えた比抵抗計です。 環境温度やプロセス温度の変化による測定値の変化や 信号ノイズを防ぎ、高い温度補償比抵抗精度を実現。 半導体分野における水質の正確な把握と歩留まりの向上に貢献します。 【特長】 ■±0.5％以下の測定精度を実現 ■ノイズと水質変化による干渉を区別し、高...

メーカー・取り扱い企業： メトラー・トレド株式会社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

○静電容量： 500〜4000pF ○静電容量誤差： ±20%以内（高精度モデル有） ○許容温度範囲： -30℃〜+50℃ ○エネルギー散逸： 最大0.5% (@1kHz) ○絶縁試験： 下記DCテスト電圧にて10秒間 ○絶縁抵抗： 20,000MΩ(最小値：@100VDC) ○温度係数： N5500(±1000ppm/℃) ○端子強度： 最大トルク・・20[inch・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

ジャケットフォーム

耐熱１５０℃　断熱材

耐熱１５０℃　メラミンスポンジを使用した高性能・軽量・安価・現場加工が容易な断熱材です。 熱交換器、水蒸気配管、ボイラー関連、半導体前工程排気配管等にご使用頂けます。 これまで、ガラスフェルトなどの断熱材に比べても省エネな断熱材です。 もちろん、ガラスフェルトを使用した150℃を超える断熱材もご用意できます。...標準品； 32A　ストレート1000L、クランプ、エルボ、チーズ 40A　...

メーカー・取り扱い企業： ラックデザイン株式会社

鋳物加工もお任せ下さい　材料手配から承ります

砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

各種材質、工法の鋳造品につきまして、様々な実績があります（受注品の約40％が鋳造品です） 各鋳造メーカー様との協業により、型の作成～材料手配～機械加工～表面処理まで一貫して承ります 対応材質：鉄鋳物（ＦＣ、ＦＣＤ）、アルミ鋳物、ステンレス鋳物、銅鋳物、アルミダイカスト、石膏鋳造（材質各種） 対応工法：砂型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造 加工サイズ：300ｍｍ×300ｍ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社