1000℃ | イプロスものづくり

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最大1000℃まで耐熱！約15年間使える耐熱工業用ラベル

PR耐熱、耐薬品、耐久性とともに優れた耐衝撃性があり、自在にサイズと形状が…

セララベルＳＬは、ステンレス基板にセラミックスでバーコードパターンなどを焼成した高い耐熱性を持ったラベルです。【特長】 ◆高い耐熱性（セララベル-300の場合、最大1400℃まで） ◆セラミックのラベルにもかかわらず、約90度まで折り曲げても割れにくい。 ◆約15年相当の長期耐久性にも対応（生産現場に適しております） ◆耐薬品性も良好。（ただし、高温高濃度アルカリを除く） ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社シグマックス
PRP/HSR対応冗長化装置RedBOX『RB304』

PR制御システム等における周辺装置のゼロ復旧時間を実現。クリティカルな…

PRP/HSR(IEC62439-3）に対応していないデバイスも本製品と接続すれば、周辺装置をその冗長ネットワークに参加することが可能となります。＜PRP製品＞並列接続でLAN構成を二重化。一方の回線が故障してもメッセージロスが生じません。＜HSR製品＞ LAN回線をリング構成とし、右回り・左回りに同じメッセージを伝達。一方が故障してもメッセージロスが生じず、遅延も起...

メーカー・取り扱い企業：株式会社リョウセイ
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング）ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W）システム...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー）基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整）寸法：...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
SiC半導体製造用機能部品

2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

注入、スパッタリング工程で使用されています。【特長】 ■タンタルカーバイド・超高温（2000℃以上）での使用が可能・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック・1000℃までのプロセスに対応・仕様に応じての設計の自由度が高い ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 ...
メーカー・取り扱い企業：モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ■T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ■独自プラズマ制御(MPスパッタ)技術にてスパッタ薄膜特性を向上 ■ヒーターステージ(1000℃)搭載で高温プロセスが可能 ■開発工程～量産工程まで様々な用途へ活用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：パナソニックプロダクションエンジニアリング株式会社
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング）ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W）システム...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

O2, N2）反応性スパッタリングプラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー）基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整）寸法：...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中】弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社
加工ストローク1500×700×660ｍｍの立形MCを保有

500～1200ｍｍサイズの加工を得意とし、1000分台の精度保証対応…

高精度の要求に対応する為、高スペックなＭＣを取り揃えています。半導体製造装置や液晶製造装置メーカーを主要顧客としており、高精度な部品加工の要求を満たす為、各種高スペックなＭＣを取り揃えています。中大物の加工サイズに特化し、試作から中量産まで短納期での対応をいたします。最大1500×700ｍｍまでの加工対応が可能。品質保証【測定設備】　・LEGEX9106【高精度三次元測...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三栄精機工業
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社