集塵装置内蔵切断機　アルミ形材用切断機『UCA-400DC型』

PR簡易集塵装置をビルトインした省エネ&コンパクト切断機 。 …

狭い場所に設置出来る 溜まった切粉はワンタッチで回収が行える切断機。 小型サイクロン搭載のアルミ形材切断機UCA-400DC型のご紹介です。 「溜まった切粉の掻き出しに時間を掛けたくない」 「集塵機を置きたいがスペースが無い」 「集塵機も導入したいが予算が無い」 など　　 UCA-400DC型は、お客様の声から生まれた切断機です。 別置き集塵機の十分の１...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社奥村機械製作所

手作業と比べ1/60以下の時間短縮『CNCプラズマ自動切断機』

PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能！枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…

当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業（型紙墨入れ+実切断時間）に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 　・直角切断 　・斜め切断 　・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エトロンシステム

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

*旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント： ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3（炭化珪素）コーティンググラファイト Ma...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

【構成（一部）】 ■基板寸法：最大φ4インチ ■電極構造：平行平板（デポタウン） ■プラズマ電極 　・外径φ150、シャワー式ガス噴射 　・自動整合器マウント ■基板電極 　・外径φ150 　・ヒーター内蔵式、基板加熱Max500℃ ■成膜チャンバー：φ300 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

OP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) 　　　　 SiH4/O3系 (SiH4/PH3/B2H6/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350～430℃（SiH4/O3系 150～300℃) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

ッド仕様、3ヘッド仕様ともに 　　　　　　　　　　面内:≦±3.5%、面間:≦±2.5% ○不純物濃度均一性：面内、面間ともに±3.0%以下 ○温度：350℃ ～430℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃ ) ○対応ウェーハサイズ：8インチ 　(8インチ・6インチウェーハサイズの兼用化はオプション対応) ○スループット：～100枚/hour(＠5000Å) ●詳しくはお問い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

MOCVD排気濾過用フィルター　（AIXTRON装置用）中国産

MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

しい。 ３、 機械構造強度が強く、耐高温性、耐腐食性が優れる、ＭＯＣＶＤ装置の厳しい排気環境に適応。 パラメーター： １、 使用温度：300 ℃ ~ 900 ℃； ２、 仕様：270*150*60mm ３、 お勧め交換周期：25-30ＤＡＹＳ ...

メーカー・取り扱い企業： 愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

ジャケットフォーム

耐熱１５０℃　断熱材

材です。 熱交換器、水蒸気配管、ボイラー関連、半導体前工程排気配管等にご使用頂けます。 これまで、ガラスフェルトなどの断熱材に比べても省エネな断熱材です。 もちろん、ガラスフェルトを使用した150℃を超える断熱材もご用意できます。...

メーカー・取り扱い企業： ラックデザイン株式会社

中空直進導入機

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。

中空構造のため、可能フランジに駆動させたものを任意に取り付けが可能 シール部に溶接ベローズを採用し、高真空の領域で使用可能 ベーキング温度120℃(最大150℃まで)対応...

メーカー・取り扱い企業： 入江工研株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステムはNｄ：YAGレーザ（266nm,120mJ，10Hｚ）を用います。 YAGレーザによるPLDは容易に集光が得やすいことが特徴です。 金属材料などもアブレートしやすい...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社