集塵装置内蔵切断機　アルミ形材用切断機『UCA-400DC型』

PR簡易集塵装置をビルトインした省エネ&コンパクト切断機 。 …

狭い場所に設置出来る 溜まった切粉はワンタッチで回収が行える切断機。 小型サイクロン搭載のアルミ形材切断機UCA-400DC型のご紹介です。 「溜まった切粉の掻き出しに時間を掛けたくない」 「集塵機を置きたいがスペースが無い」 「集塵機も導入したいが予算が無い」 など　　 UCA-400DC型は、お客様の声から生まれた切断機です。 別置き集塵機の十分の１...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社奥村機械製作所

寿命が２倍に！ガススプリング保護カバー『HDPシリーズ』

PRガススプリングに直接組付け可能！厳しい取付環境であっても、ガススプリン…

『HDPシリーズ』は、厳しい取付環境であっても、ガススプリングの寿命を 延ばせる様設計された保護カバーです。 ケーブルタイをシリンダーのC溝若しくはフランジアダプターに対して 締め付けることにより、ガススプリングに直接組付けることが可能。 コンパクトで独創的な設計により、装着することで、 装着しない場合に比べてガススプリングの寿命が2倍になると考えられます。 【特長】 ■開放的な空気口を持た...

メーカー・取り扱い企業： KALLER

イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜…

『scia Mill 150/200』は、マイクロウエーブECRソース(218mm径)の イオンビームミリング装置です。 プロセスは、イオンビームエッチング/ミリング(IBE/IBM)、 反応性イオンビームエッチン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

研究開発用小型実験装置 Mini-Lab

IC・MEMSの実験に適した安価で超小型！即稼働の実験装置をご提案！

【ラインアップ(一部)】 ■ミニコーター　Mini-Lab spin-150 ■ベーク装置　Mini-Lab bake-150 ■現像装置　Mini-Lab dev-200 ■クーリング装置　Mini-Lab cool-150 ■エッチング装置　Mini-Lab ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アシストナビ

成膜 ⇔ エッチング装置『210D』

簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…

【特長】 ■簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可 ■グラフィックインターフェイスで操作が簡単 ■ご要望に応じて、特殊仕様対応可 ■導入コストの抑制 ■-20℃～150℃まで対応 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【Sonaer】ソニア社製低流量型超音波スプレーノズル

2mmlit/min以下の流量噴霧が可能に！

周波数：48kHz / 60kH / 130kHz 流量：2mmlit/minまで 材質：ステンレス（アルミニウム製は特注） 重量：175g / 150g / 180g...

メーカー・取り扱い企業： ティックコーポレーション株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

【仕様(一部)】 ■PECVD装置 ・SiN3膜形成 ・SiO2膜形成 ・サンプルサイズ最大240mm ■スパッタ装置 ・金属膜 ・有機膜 ・サンプルサイズ最大150mm ■反応性イオンエッチング装置 ・表面処理 ・故障解析 ・サンプルサイズ最大200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

ることが出来ます。 【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度：-40℃～+60℃ ■傾斜角：+90度～-80度 ■ロードロック　又は、CtoC ■ウエハサイズ：100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、 　Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能 ■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能 ■150mm、200mm ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

排ガス処理セット　ES-F1

エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

吸着 ■エッチングマシーンの排気口へピッタリ差し込め取り付けが簡単 ■乾式フィルターを採用し、取り替えが簡単 ■活性炭カセット代は1時間当たりおよそ25円と経済的 ■活性炭カセット寿命 ：150時間 ■排気風量 ：約35L/分 ■排気ダクト長：2m以内 ■防水ファン ：過負荷保護回路内蔵（電流カット方式採用) ■寸法・重量：250φ×340mmh　約5kg ■電源 ：AC100...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

【金属エッチング事例】エンコーダ用スリット板

ご指定の形状、仕様に応じて製作することが可能！反射防止の黒染め処理を施…

す。 画像は一般的な形状を模したサンプルですが、ご指定の形状、仕様に応じて 製作することが可能です。 【製品仕様】 ■材料：SUS304 ■外形サイズ：φ30mm ■材料厚み：150μm ■表面処理：低温黒色クロム処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 東洋精密工業株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

ムを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE,ICP,ICP+RIE,ICP-CVD又はPECVD装置 ■研究開発向け ■ウエハサイズは50mm,100...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

二宮システム製　超小型エッチング試験装置

二宮システム製　超小型エッチング試験装置

【特長】 ○実験室の片隅にでも置ける超小型サイズ ○Max、150×150mmサイズのワークが処理できます。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ2"（最大6）、Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社