• 【トルク2倍で作業を楽々!】補助ハンドル付き 六角棒スパナ 製品画像

    【トルク2倍で作業を楽々!】補助ハンドル付き 六角棒スパナ

    PR手触りが良く、衝撃に強い樹脂を使用したハンドルを装着することにより、通…

    『WHH-3TL~10TL・S6TL』は、ハンドルとレンチが簡単に分離できるのでエコロジーな廃棄が可能な補助ハンドル付き六角棒スパナです。 ハンドルをレンチのL1側に装着することで、ハンドル無しに比べてL2側のトルクが2倍以上出せるようになります。 【特長】 ○簡単にハンドルを取り外し、分離できるので分別して廃棄可能 ○トルクUPで、楽々作業することができます。 ○ハンドルは手触りが...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイト

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    超低湿度用防湿庫『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』

    PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用!ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…

    『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5%RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア(マグネットパッキン式)で、中央支柱がないので、 横長のもの...

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    メーカー・取り扱い企業: トーリ・ハン株式会社

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。  ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへ...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

    FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

    と基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途:MEMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H): 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) :1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ: 直径150 mm 最大基板キャリア:直径220 mm 対応プロセス...

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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