• インパルスノイズ試験器 INS-S100 製品画像

    インパルスノイズ試験器 INS-S100

    PR電源ラインからの侵入や通信線などへの誘導ノイズによる電子機器の性能評価…

    インパルスノイズ試験器はスイッチングデバイスの接点間の放電、電子モーターから発生するアーク放電などによる立ち上がりの早い高周波ノイズを模擬的に発生させ、電子機器の耐性を評価する試験器です。 インパルスノイズ試験器INS-S100は、50Vからのパルス出力が可能で、製品開発時の回路基板や弱電部品などのノイズ耐性評価が手軽に行えるほか、市場での不具合発生時の解析などにも活用できます。 ○ ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノイズ研究所(NoiseKen)

  • JUKI新製品公開!6/12~14実装プロセステクノロジー展出展 製品画像

    JUKI新製品公開!6/12~14実装プロセステクノロジー展出展

    PRJUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産…

    JUKIは6/12(水)~6/14(金)に東京ビッグサイトにて開催される 「第25回 実装プロセステクノロジー展」に出展いたします。 今回の実装プロセステクノロジー展では、 JUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産プロセスの実現でお客様の課題を解決」 をテーマに、プラネットヘッドP20Sを加えた「高速フレキシブルマウンタ LX-8」をはじめ、 世界初公開...

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    メーカー・取り扱い企業: JUKI株式会社

  • シリコン(Si)粉末 製品画像

    シリコン(Si)粉末

    Si純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…

    2N(Si>99.0%)、3N(Si>99.9%)、4N(Si>99.99%)、 粒度分布は微粉末(100nm~)、粉末(1.0μm~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに対応可能です。 【特長】 ■微粉末~粒体の製造方法:乾式ジェットミル・乾式ボールミル ■微粉末~粒体は最低1kg~...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    サブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 酸化マグネシウム (MgO) 粉末 <金属Mg水蒸気反応方式>  製品画像

    酸化マグネシウム (MgO) 粉末 <金属Mg水蒸気反応方式>

    高純度金属Mgに高温の水蒸気を反応させた MgO純度99.9%以上の…

    25.2ppm SO4 1.8ppm ICP発光分光分析装置により元素を定量した後、化学量論による酸化物換算値を算出。 <粉体物性(代表値*)>  粒子径分布   D50=2.605 µm(レーザー回析・散乱法)  比表面積   4.05 m2/g(レーザー回析・散乱法) ご注文により、さらなる微粉化に対応します。 (代表値*)→量産品の測定結果で...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

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