正ピロー包装機『PROTO-A800B』

PR制御システムの刷新で多品種の高速・緻密な包装に対応。サニタリー性・メン…

『PROTO-A800B』は、センターシール・トップシールの構造と 制御システムの刷新により、多くのフィルム品種に対応した正ピロー包装機です。 トップシールには2軸サーボモータ駆動方式を採用。 センターシールはタッチパネル操作で張力調整が行え、 緻密な動作でタイトに包めるほか、運転中でも胴回りの絞り調整が可能です。 トップシールはシール圧、時間、温度の細かな調整に対応しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ポリスター株式会社

シルフラックスが選ばれる理由！【ろう付け用フラックス】

PR低コストで高品質なフラックス！使用温度は600～800℃！オールラウン…

当社で取り扱っている「シルフラックス」について ご紹介いたします。 オ－ルラウンドタイプで溶融温度の低い銀ろうで、銅や鉄系合金一般に 用いられます。 シルフラックスは、自社製造体制により、中間マージンをカットし、低価格でご提供しています。 さらに、厳しい品質管理体制のもとで製造されているため、高品質なフラックスを安定的に供給することができます。 使用温度は600～800℃です。 ご用命の際は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シル化成

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。 トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。 AMAX800Vは、8インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり100枚の成膜が可能です。 また、AMAX800Vのメンテナンス性を更に向上させたAMAX800V2もラインナップしております。 ●装置サ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高ス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

　・水素ラジカル注入用：RF13.56MHz・1KW・MHC 　・メインプラズマ用：RF13.56MHz・1kW・CCPシャワーヘッド ■チャンバー：SUS304、架台 ■基板ステージ：800℃、2インチ基板×1枚、上下ベローズ ＜大面積ナノカーボン堆積装置(LCND-200)＞ ■プラズマ源：RF13.56MHz・5kW・マルチホローCCPシャワーヘッド ■チャンバー：SUS3...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

00」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■スチールステンレス製チャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

鋳物加工もお任せ下さい　材料手配から承ります

砂型鋳造、金型鋳造、金型鋳造、ダイカスト鋳造、石膏鋳造など、あらゆる鋳…

装置 ・車載設備 ・航空宇宙 ・医療用各種診断装置　など まずはお気軽にご相談ください 加工設備 横型MC：a８１ｎｘ【900×900×1020ｍｍ】1台 　　　　 Ａ７７【800×750×770ｍｍ】2台 立形MC：Ｖ77【1200×700×650ｍｍ】1台　 　　　　 Ｖ77Ｌ【1500×700×660ｍｍ】1台　 　 ＮＶＸ7000Ｅ【1540×760×660ｍ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

キシャル成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料の成膜用途として累計約800台の装置を世に送り出してきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、5G/6G、VCSELレーザー、...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。これまで主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料の成膜用途として累計約800台の装置を世に送り出してきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、5G/6G、VCSELレーザー、...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステムはエキシマレーザとの制御により自動成膜（レーザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で800度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1 inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

【資料】ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データ

シリコンのノンボッシュプロセスの新しいデータを掲載しています

当資料では、ノンボッシュプロセスを用いたシリコン加工データについて ご紹介しています。 RIE-800iPを用いてノンボッシュプロセスで加工したシリコンエッチング結果 などを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■プロセス ■高アスペクト ボッシュプロセス加工結果 ■順...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社