卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』

PRコンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです！

卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応できる卓上ラップ装置です。 ＜特徴＞ ・精密鏡面加工の自動化 ・耐薬品性に優れたボディ設計 【使用可能定盤外径 : Φ380 mm】 また、本装置を2024年10月2日...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

クリーンカップリングシリーズ『チェックバルブNCV型（SUS）』

PR逆圧や漏れに強いシンプル構造の流体継手！シール材質が選択可能で、配管の…

当社はカップリング・パイプクランプを幅広く製造している専門メーカーです。 ラインアップのひとつ『SUS製 チェックバルブ NCV型』は、 逆圧や漏れに強い、半導体・薬液・液晶・理化学用の製品です。 流体の流れを一定方向に保ち逆流を防止。用途に応じてネジ形状やシール材質が 選択可能で、両オネジタイプはネジ部が配管内に収まるため、省スペース化を図れます。 設計から製作まで対応でき、少...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニューマシン

CMPスラリー

幅広くカスタマイズ可能なCMPスラリー

CMP（ケミカル・メカニカル・ポリッシング：化学的機械研磨）スラリーは、半導体の製造工程で、基板表面を研磨するために用いるスラリーです。化学的エッチングが、材料を柔らかくし、機械的摩耗によりマテリアルが除去されるため、元々の立体的形状が平坦化されます。これがCMPのメカニズムです。 当社のCMPスラリーは半導体回路微細化と高速化を実現するための銅配線用、低温でスパッタリングでき、ローコストなアルミ配線...

メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社

CMP装置【研究開発用の卓上型～300mmウエハー対応まで！】

卓上型から300mmウエハー対応までCMP装置をラインナップ！Dry-…

したコンパクトなモデルから300mmウエハーに対応した モデルまでラインナップを取り揃えております。お客様のご希望に沿った 仕様変更 ・オーダーメイド、Dry-in / Dry-outが可能なCMP自動装置も ご提案いたします。デモ機もございますので、立ち合いの元デモテスト も対応可能です。 【下記のようなご要望にもお応えします】 ■薬液対応（酸性・アルカリ性の様々なスラリーに対...

メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社