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  • 資料『3Dプリント(積層造形)に適した設計方法』＜無料進呈中＞ 製品画像

    資料『3Dプリント(積層造形)に適した設計方法』＜無料進呈中＞

    PR2028年までに6.5倍の収益増加が予測される3Dプリントの活用に向け…

    「3Dプリント(積層造形)はこれからの製造プロセスを大きく変えるテクノロジー」として評価されています。 そして、製造業で実績を上げている優良企業の48％が、競争力を高めるためのテクノロジーとして 以前は製造が難しかった形状を造形できる3Dプリントを挙げています。（注1） 3Dプリントは2028年までに780億ドルにまで達すると予測されています。 今後、定着することが明白なこのテクノロジーをメー...

    メーカー・取り扱い企業： ソリッドワークス・ジャパン株式会社

  • シリコン（Si）粉末 製品画像

    シリコン（Si）粉末

    PRSi純度2N～4N、粒度分布50nm～3mmに対応。ニーズに合わせカス…

    当社は、用途に応じた純度や粒度分布のカスタマイズに対応可能な 『シリコン（Si）粉末』を提供しています。 Si純度は2N（Si＞99.0％）、3N（Si＞99.9％）、4N（Si＞99.99％）、 粒度分布は微粉末（100nm～）、粉末（1.0μm～）、粒体（1～3mm）に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

  • 微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末 製品画像

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

    ■製品スペック(COA : 量産品代表値。) ＜α相 D50=1μm - 2μm品の場合＞ Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9p...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

  • サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末 製品画像

    サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末

    物理蒸着法（PVD）による球状 銅（Cu）粉末。 サブミクロン～１ｍｍ…

    物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状 銅（Cu）粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン～１ｍｍまで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能数量...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

  • 球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末 製品画像

    球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末

    物理蒸着法（PVD）による球状 ニッケル（Ni）粉末。サブミクロンスケ…

    物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状ニッケル（Ni）粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能...

    メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

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