• 2次元・3次元融合CAD MYPAC(R)Box-Design 製品画像

    2次元・3次元融合CAD MYPAC(R)Box-Design

    PR【梱包設計に携わる製造業者、設計部門の方必見!】手作業から自動化へ。誰…

    『MYPAC(R)BOX-Design』は、包装設計用2D/3D融合CADシステムです。 包装設計・製造の課題を当製品が解決いたします。 「3Dスキャナー」「3Dプリンター」「サンプルカッター」など、周辺機器と 組み合わせた、ワンストップソリューションで、高精度・多機能・低価格。 “包装設計を担っていた職人が退職、スキル継承に時間が掛かる”や “ロスの削減、仕上がりの均一化、リードタイム短縮等...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SINACO 本社、埼玉ショールーム、大阪ショールーム

  • ◆JIAM 2024出展◆積層式自動裁断機 P-CAM R  製品画像

    ◆JIAM 2024出展◆積層式自動裁断機 P-CAM R 

    PRJIAM 2024 OSAKAに出展 「世界一の裁断技術への挑戦」ブ…

    当展では、弊社自動裁断機(NC裁断機)P-CAMシリーズの新機種となる<P-CAM R>による、カットソー・布帛の裁断を実演し、裁断精度がアップしたことをご覧いただくとともに、裁断に適した状態で生地を延反する自動延反機<P-SPR2L>も併せてご紹介いたします。また、ニーズに合わせて裁断エリアと裁断方式が選べるコンパクトタイプの自動裁断機(NC裁断機)<P-CAM120C>を中心とした異業種サンプ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島精機製作所

  • HiPP-Lab(環境制御型X線光電子分光分析システム) 製品画像

    HiPP-Lab(環境制御型X線光電子分光分析システム)

    大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置!

    HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together th...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • LT STM(極低温走査トンネル顕微鏡) 製品画像

    LT STM(極低温走査トンネル顕微鏡)

    極低温環境における走査トンネル顕微鏡の紹介

    LT STM(極低温走査トンネル顕微鏡)とは、極低温環境における走査トンネル顕微鏡をさします。 多数の販売実績のある装置で、5K以下の極低温でのSTM測定が可能な装置です。 【用途】 極低温環境におけるナノ領域のSTM観察・測定 【特長】※英語表記です。 ●Increased hold time to >65h at same performance level „ ●High...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム) 製品画像

    ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム)

    ARPESでのXPS観察・測定に!次世代のARPES測定装置の紹介です…

    ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム)、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Oxygen Atom Beam Source OBS 製品画像

    Oxygen Atom Beam Source OBS

    Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となり…

    The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and i...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • 最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC 製品画像

    最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したLC

    日々のメソッド開発の課題を解決!既存システムの段階的なアップグレードも…

    『1260 Infinity II メソッド開発システム』は、最高80MPaの耐圧を有し、 日々のメソッド開発に適したシステムです。 100種類を超える、異なるLC分離条件での、自動スクリーニングが可能で マニュアル操作は不要。15の異なる移動相および2つの独立した温度ゾーンで、 4本までのカラムを用いたメソッド開発が可能です。 新しい 1260 Infinity II フレキシ...

    メーカー・取り扱い企業: アジレント・テクノロジー株式会社

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