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PRICタグによりウェア管理業務を省力化! 洗濯回数が把握できるようにな…
当社では、お客様のクリーンウェアにICタグを取り付け、当社工場への 入荷時と出荷時に専用のICタグリーダーで読み取りを行い、ウェアごとの 洗濯回数データを管理できる『ICタグによるクリーンウェア管理サービス』を行っております。 ICタグを取り付けたウェアごとに洗濯回数を個別管理できるため、 お客様が設定された洗濯回数を超えたウェアをタイムリーに交換可能。 ウェア劣化によるコンタミネー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社菱進
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Smart LCDC【組込機器へ液晶を搭載されたいお客様に】
PR「液晶」「LCDコントローラIC」でお困りのお客様、お気軽にご相談下さ…
◆必見◆ ・LCDコントローラICの入手でお困りのメーカー様 ・他社製LCDコントローラICの生産中止等でお困りのメーカー様 ・液晶の生産中止や仕様変更などでお悩みのメーカー様 〇小ロット、長期生産のお客様向けの製品です。 〇液晶の生産中止、LCDコントローラICのデバイスの生産中止に対して強力な解決案となっています。 〇弊社製品は基本的に1pcsからご購入可能です。 【S...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ケニックシステム 東京オフィス
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【DL可】FIBによる微小対象物(ICコンタクト部)の断面作製
FIBで微小対象物(例えばICコンタクト部)の任意箇所、ここという場所…
装置では、0.1μm程度の対象物であれば、狙って断面を作製することが可能です。 この技術を用いて、正確な位置でのTEM観察用薄片試料の作製が行えます。 この事例では 「FIB装置によるICコンタクト部の断面作成・断面観察」 を紹介しています。 ぜひPDF資料をご一読ください。 また、弊社はFIBによるICおよびLSIの回路修正を目的とした配線修正も強みとしております。 ...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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【資料DL可:FIB】FIB装置によるSi基板へのパターン描画
FIB装置でシリコン基板上に高精度のパターン形成を行えます。マスクレス…
能です。 ・ デポジションによるパターン描画も可能です。 この事例では FIB装置で実際にシリコン基板上へパターンをどのように描画するか を紹介しています。 尚、弊社はFIBによるICおよびLSIの回路修正を目的とした配線修正も強みとしております。 具体的には以下のとおりです。 ・配線の切断 ・配線の接続 ・特性評価用のテストパッドの作製 等を適切に短納期で行い、お客様...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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<資料DL可>【FIB-SEM】めっき層内の異常個所発見方法
FIB-SEM装置で表面からは分かりづらいめっき層内の異常個所を観察で…
面作製機能を用いて、めっき層内の表面からでは分からない異常個所の発見方法」 を紹介します。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※なお、弊社はFIBによるICおよびLSIの回路修正を目的とした配線修正も強みとしております。 具体的には以下のとおり ・配線の切断 ・配線の接続 ・特性評価用のテストパッドの作製 等を短納期で行い、お客様のICおよび...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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FIB装置によりSi基板上に”マスクレス”でナノレベルの加工を狙った位…
作製を紹介しています。 ・円形:φ5μm ・ピラーの高さ:700nm/650nm/600nm ・ピラーの径:φ500 nm ぜひPDF資料をご一読ください。 また弊社はFIBによるICおよびLSIの回路修正を目的とした配線修正も強みとしております。 具体的には以下 ・配線の切断 ・配線の接続 ・特性評価用のテストパッドの作製 を短納期で行い、お客様のICおよびLSI...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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【イオンミリング(CP)/クライオ】分析と観察の前処理事例集
断面加工や分析および観察の前処理などイオンミリング加工、クライオ加工の…
P加工)の紹介 ・分析事例 ■イオンミリングによる微小部断面加工 ・目的:イオンミリング法によりワイヤ中央付近で断面を作製しての観察 ・手法:イオンミリング、FE-SEM ・試料:ICチップワイヤボンディング部で加工 ・結果:ワイヤ(25μm)中心にて断面作製・観察が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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【FE-SEM/EBSDなど】断面観察や構造解析に関する事例集2
微小部断面加工と分析、残留応力測定などイオンミリング、FE-SEM、E…
パッタ膜の評価 ・分析事例 ■イオンミリングによる微小部断面加工 ・目的:イオンミリング法によりワイヤ中央付近で断面を作製しての観察 ・手法:イオンミリング、FE-SEM ・試料:ICチップワイヤボンディング部で加工 ・結果:ワイヤ(25μm)中心にて断面作製・観察が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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