• 電気自動車用バッテリー向けレーザ溶接/光計測ソリューション 製品画像

    電気自動車用バッテリー向けレーザ溶接/光計測ソリューション

    PR高精度・高速光計測センサ、レーザ溶接、溶接中モニタリングなどバッテリー…

    ■光計測センサ  ・Enovsaense - 不透明体の厚み測定    バッテリーのグラファイトコーティング厚み  ・Field Sensor - 内部欠陥検査    溶接内部の欠陥をエリア検査    (クラック、ブローホール、ピンホールなど)   ・デュアルポイントセンサ(DPS) - 電極厚み測定    距離センサ2個の挟み込みによる高速・高精度測定  ・FSS -...

    メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社

  • ネットワーク端末装置『VOICE-IP TERMINAL II』 製品画像

    ネットワーク端末装置『VOICE-IP TERMINAL II』

    PR産業用音声ネットワーク端末 音声放送システムを簡単にIP化!導入・運…

    産業用音声ネットワーク放送(VoIP)に好適! 弊社の『VOICE-IP TERMINAL II』は全てH/Wで設計しています。 CPUを使用していないため起動が非常に早い事が特徴です。 放送中に電源OFF/ONしても数秒で放送動作を開始します。 また装置にダメージもありません。 当然のことながらOSやアプリケーションソフトを実装していない為、 外部からのハッキング(書換えや乗っ取り等...

    メーカー・取り扱い企業: SIシナジーテクノロジー株式会社 本社

  • HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム) 製品画像

    HAXPES-Lab(ラボ型硬X線光電子分光分析システム)

    放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!

    今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により9.25keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed ...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • COMPACT EFFUSION CELLS 製品画像

    COMPACT EFFUSION CELLS

    COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります

    COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • Custom MBE Systems(真空蒸着装置) 製品画像

    Custom MBE Systems(真空蒸着装置)

    真空蒸着装置の紹介です。

    Virtually unlimited thin film growth techniques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge &...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • VUV-5K (紫外光源) 製品画像

    VUV-5K (紫外光源)

    真空紫外光源の紹介

    輝度の高い紫外光源(真空紫外光源)のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). T...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

  • CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO 製品画像

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO

    CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…

    The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...

    メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社

1〜5 件 / 全 5 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 0909_iwata_300_300_145975.jpg
  • 2校_0902_duskin_300_300_2109208.jpg

PR