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PR高精度・高速光計測センサ、レーザ溶接、溶接中モニタリングなどバッテリー…
■光計測センサ ・Enovsaense - 不透明体の厚み測定 バッテリーのグラファイトコーティング厚み ・Field Sensor - 内部欠陥検査 溶接内部の欠陥をエリア検査 (クラック、ブローホール、ピンホールなど) ・デュアルポイントセンサ(DPS) - 電極厚み測定 距離センサ2個の挟み込みによる高速・高精度測定 ・FSS -...
メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社
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ネットワーク端末装置『VOICE-IP TERMINAL II』
PR産業用音声ネットワーク端末 音声放送システムを簡単にIP化!導入・運…
産業用音声ネットワーク放送(VoIP)に好適! 弊社の『VOICE-IP TERMINAL II』は全てH/Wで設計しています。 CPUを使用していないため起動が非常に早い事が特徴です。 放送中に電源OFF/ONしても数秒で放送動作を開始します。 また装置にダメージもありません。 当然のことながらOSやアプリケーションソフトを実装していない為、 外部からのハッキング(書換えや乗っ取り等...
メーカー・取り扱い企業: SIシナジーテクノロジー株式会社 本社
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放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!
今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により9.25keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed ...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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COMPACT EFFUSION CELLSの製品情報となります
COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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真空蒸着装置の紹介です。
Virtually unlimited thin film growth techniques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge &...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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真空紫外光源の紹介
輝度の高い紫外光源(真空紫外光源)のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). T...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO
CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報…
The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A ma...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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