ITOガラスエッチング剥離装置

簡易な槽内洗浄が可能！装置内の数か所に基板蛇行修正機構を取り入れていま…

『ITOガラスエッチング剥離装置』は、ガラス基材表面のITO（透明導電性膜）を エッチングする製品です。 駆動部の簡易洗浄ノズル管により、駆動ギアの結晶防止機能を持たせており、 薬液槽内にも洗浄スプレーを設けることで簡易な槽内洗浄が可能。 メンテナンス性が向上します。 また、装置内の数か所に基板蛇行修正機構を取り入れることで、 搬送性能を高めています。 【特長】 ■ガラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーア電子

全自動レーザーリペア装置

ＦＰＤのセルパネル欠陥に対し、ＩＴＯパターンをカットして修正可能。

＜PDP−ITO膜パターン修正レーザー装置＞ ■概要 PDPセルリペア装置は、点灯検査後のセルパネル欠陥に対し、ガラス越しにITOパターンをカットし、輝点を原点にし、パネルの修正を全自動にて行います。 下...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

フォトエッチング加工

大量生産のための多数個取り、大型モジュールの生産など幅い広いニーズに応…

で500×1,000mmのパターンを加工できます。 お客さまのさまざまな加工ニーズをご相談ください。 【特長】 ＜Cu/ITO 積層膜のパターニング＞ ■ベースフィルム上に積層したITO膜とCu膜を、 　1プロセスの中でパターニング ■有効露光エリア500mm×1,000mmで、大面積の加工も可能 ■両面パターニングにも対応 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： NISSHA株式会社

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

UV(紫外線)表面処理技術の用途例 -洗浄と改質- ・パネル・ディスプレイ 製品　フラットパネル、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL 用途・効果 ガラス表面の有機系皮膜の除去、ITOと絶縁膜との密着度向上、ガラスとITOの密着向上、各種塗布膜の親水化 ・光学部品 製品　ピックアップレンズ、センサー、半導体製造用レンズ、水晶振動子 用途・効果 レンズ表面の有機系...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

Smart film Vacuum Conditioner

PET Filmの前処理　&　Filmの熱収縮の調整　＆ITO膜の連続…

Smart film Vacuum Conditioner(SVC)はPET Filmの脱ガス・脱水分などの前処理及びFilmを無張力状態に加熱処理することで、Filmの熱収縮の調整（平坦化）、ITO膜の連続的な結晶化処理が可能な設備です。 ■装備特徴 • Flimを無張力で熱処理して0.1%以下の極低熱収縮Filmを生産 • 均一な基板温度に加熱可能 (基材の平坦化) • ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』

実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…

『VS-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

フラッシュランプアニーリング装置　FLA

半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

フラッシュランプアニーリング装置　FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。 各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

薄膜形成

薄膜形成

・薄膜形成からパターニング及びメッキ加工までの一貫したプロセスで対応可能 ・多層膜構成の対応可能 ・Siウエハ、ガラス基板、樹脂フィルム基板への膜付けが可能 ・基板サイズは任意にて対応可能...薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

ITOフィルムエッチング装置

一定値以上の負荷が掛からないようフィルムを搬送！高いスプレー効率を実現…

『ITOフィルムエッチング装置』は、M-ITO（メタル付透明導電性膜）フィルム、 ITO（透明導電性膜）フィルムの連続エッチングを行う製品です。 RtoR（ロールtoロール）でのフィルム搬送において、テンションの掛け過ぎは 基材の伸びの原因になります。 当社では中間に張力制御用の駆動を設け、一定値以上の負荷が掛からないよう フィルムを搬送。 搬送ロールの本数を必要最小限に抑...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーア電子

立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 例えば、ガラス板やフ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社