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  • 異物混入リスクを低減できる減圧弁＜FOOMA JAPAN出展＞ 製品画像

    異物混入リスクを低減できる減圧弁＜FOOMA JAPAN出展＞

    PR「FOOMA JAPAN 2024」にサニタリー減圧弁（接液部に摺動部…

    -サニタリー減圧弁- 当社では、ピュアスチーム・クリーンスチーム用の減圧弁を提供しています。 液溜まりの無い構造でサニタリー性が良いほか、 接液部には摺動性がないため、異物混入リスクを低減できます。 【仕様】 ■作動方式：直動式　■本体材質：SUS316 ■接液部仕上げ：バフ＃320～400＋電解研磨 ■サイズ：15A～3S　■設計温度：158℃ ■設計圧力：0.5MPaG　■...

    メーカー・取り扱い企業： トーステ株式会社

  • FOOMA JAPANに実機出展！世界で選ばれ続ける真空ポンプ 製品画像

    FOOMA JAPANに実機出展！世界で選ばれ続ける真空ポンプ

    PR従来の油回転ポンプと比較し最大30%の省エネ(当社比)！まずは評価機で…

    【製品説明】 世界で300万台以上のR5ロータリーベーン真空ポンプが使用されています。ブッシュのロータリーベーン技術が長きにわたり業界のスタンダードとして確固たる地位を築いてきた理由の一つが、その優れた堅牢性と信頼性です。R5 RDシリーズはその優れた特質を受け継いだ最新モデルです。 【特長】 ■ 高いエネルギー効率 　従来のロータリーベーン真空ポンプと比較した場合、最大で30%の省エネを実現(...

    メーカー・取り扱い企業： 日本ブッシュ株式会社

  • ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』 製品画像

    ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

    高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

    『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。 ...

    メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

  • ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例 製品画像

    ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例

    ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例を写真付き…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ...

    メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

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