異物混入リスクを低減できる減圧弁＜FOOMA JAPAN出展＞

PR「FOOMA JAPAN 2024」にサニタリー減圧弁（接液部に摺動部…

-サニタリー減圧弁- 当社では、ピュアスチーム・クリーンスチーム用の減圧弁を提供しています。 液溜まりの無い構造でサニタリー性が良いほか、 接液部には摺動性がないため、異物混入リスクを低減できます。 【仕様】 ■作動方式：直動式　■本体材質：SUS316 ■接液部仕上げ：バフ＃320～400＋電解研磨 ■サイズ：15A～3S　■設計温度：158℃ ■設計圧力：0.5MPaG　■...

メーカー・取り扱い企業： トーステ株式会社

FOOMA JAPANに実機出展！世界で選ばれ続ける真空ポンプ

PR従来の油回転ポンプと比較し最大30%の省エネ(当社比)！まずは評価機で…

【製品説明】 世界で300万台以上のR5ロータリーベーン真空ポンプが使用されています。ブッシュのロータリーベーン技術が長きにわたり業界のスタンダードとして確固たる地位を築いてきた理由の一つが、その優れた堅牢性と信頼性です。R5 RDシリーズはその優れた特質を受け継いだ最新モデルです。 【特長】 ■ 高いエネルギー効率 　従来のロータリーベーン真空ポンプと比較した場合、最大で30%の省エネを実現(...

メーカー・取り扱い企業： 日本ブッシュ株式会社

『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応！

幅広い光学薄膜ラインアップと高精度研磨・薄膜加工技術でご要望にお応え。…

HEFグループは、新たにフォトニクスという戦略的分野に参入、 絶え間なく表面処理サイエンスの技術革新に貢献していきます。 ABRISA Technologies（米国カリフォルニア州）、 KERDRY（フランス）、 FICHOU（フランス）の3社を買収し、長年グループ内で培ってきた 専門知識（PVD/PECVD薄膜、フェムト秒レーザー、表面特性評価ノウハウ）が この新たな分野でも活用...

メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

フッ化カルシウム（CaF2）

紫外線/可視光/赤外線アプリケーション向けの光学材料

当社の『フッ化カルシウム（CaF2）』は、長年に渡って半導体製造における マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。 エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長（Lithotec(R) CaF2）】 ■深紫外13...

メーカー・取り扱い企業： Hellma Materials Japan株式会社

CEI社製CoaXPressケーブル

CoaXPressケーブル

CEI社のCoaXPressケーブルは、日本インダストリアルイメージング協会（Japan Industrial Imaging Association：JIIA）により策定された規格に準拠しています。CXP-1、CX`P-3、CXP-6だけでなくCXP-12（12Gbps）対応のケ...

メーカー・取り扱い企業： デルフトハイテック株式会社