オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

MEMS/TSV用赤外透過　微細ヴィア・トレンチ検査装置

MEMS素子検査装置（メムス　微細穴深さ計測、パターン検査）

MEMS素子検査装置として、微細穴深さ計測装置とパターン検査装置をご用意しております。微細穴深さ計測装置は赤外線カメラと特殊アルゴリズムを用いて通常では計測不可能な直径２０μｍ以下の非貫通穴の深さ計測を可能にしました。パターン検査装置は赤外線顕微鏡と電動ステージを使用した自動赤外線画像処理検査装置で欠陥の自動検出を行います。欠陥部の位置、サイズ、画像を保存でき、ＭＥＭＳ（マイクロマシン）の検査用途に使用...

メーカー・取り扱い企業： ディスク・テック株式会社 本社

TVホログラフィー振動変位解析システム　「MEMSMap510」

MEMS 試験やR&D 用のオールイン・ワンシステム

TVホログラフィー振動変位解析システム「MEMSMap510」は、面内振動（In-Plane）と面外振動（Out-of-Plane）を測定します。MEMS構造のモデリングや設計ではその微細構造の挙動が大きい構造物と異なるために解析は難しくなりま...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社シスコム（SysCom）

半導体内部観察顕微鏡『NIR2021-200』

1.3メガSWIRカメラ搭載！チップ内部のメタル配線、ダイボンディング…

『NIR2021-200』は、赤外光の透過・反射特性を利用してシリコンウェハや チップ、MEMS、CSPなど半導体デバイス内部を観察できる顕微鏡です。 1ピクセル5μm、1.3MPのSONY製IMX990を搭載したSWIRカメラを搭載し、 近赤外画像でありながら、高解像画像の取得が可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

ＭＥＭＳスキャナ検査システム

インライン検査に最適、ＭＥＭＳスキャナ検査システム

ＭＥＭＳ光学スキャナの光学、電気特性を測定する生産ライン用、研究開発用の検査装置です。 レゾナントタイプの共振特性やドリフトも測定可能です。 最大振り角計測には新方式の時間計測方式で検査タクトの短縮が図れます。 インターフェースは電磁駆動方式、静電駆動方式、ピエゾ方式のいずれも可能です。 コンパクト設計でインライン検査に最適です。 ○ウォブル測定（３角スリット時間変化検出方式） ...

メーカー・取り扱い企業： エーエルティー株式会社