実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

PVD装置

ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置

るユニポーラ・バイポーラモードの選択、且つ基板回転機構・冷却機構・RFバイアス機構を搭載した、 　優れた膜厚均一性、超高速成膜可能なPVD装置です。 ●アプリケーション 　SAWフィルター(SiO2膜)、圧電膜(AlN膜)、光学系(Si3N4, SiO2, HfO2, Ta2O5, Al2O3)、電子部品（Si3N4, SiO2, AlN膜、強誘電体膜）等の分野に最適なPVD装置をご提案致し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

【アプリケーション】 ■PECVD：絶縁膜(Si3N4、SiO2等) ■光学用(a-C：H、DLC) ■ナノクリスタルダイヤモンド、カーボンナノチューブ ■RIE：反応性エッチング(Ni、Cr、Pt..) ■光学用材料(クオーツ、フーズシリカ等) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ