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98件 - メーカー・取り扱い企業
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簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat
弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …
条件で製膜をする事が可能です。 プラズマ処理装置を用いた市場に類を見ない画期的な設備です。 量産用途からR&D用途まで多用途にお使いいただけます。 プラズマによる表面処理で濡れ性改質、そしてSiO2コーティングを同じ機械で行うことが可能です。 プラズマコートを行わない場合は通常のプラズマ処理機として塗装やインクの接着の前処理機としてもお使いいただけます。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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内外径を同時加工可能なセンタレスグラインダ
センタレス研削盤をベースに外周面、内周面の同時研削を実現することで、精度の向上、工程の短縮、加工コストの低減、機械設備の低減そして省スペース化を実現する複合研削盤です。...【内外径同時研削加工】 ・外周面研削工程中に内周面研削工程が完結する圧倒的パフォーマンス！ ・高精度に仕上げられた外周面を回転基準とした理想の内周面加工で得られる高い同心度！ 【ワークのセンタレス支持方式】 ・1 回の...
メーカー・取り扱い企業： ミクロン精密株式会社
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厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）
PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子！様々な分野で使用されている鉱…
『タルク』は、滑石と呼ばれる天然鉱物の中で柔らかい扁平結晶構造の鉱物です。 特に粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子であることが大きな特長で 様々な分野で使用されています。 良質のタルク原料は、中国、豪州、米国等で産出され、さらに産地を限定した 原料を輸入して粉砕、分級加工して製品化します。 【ラインアップ（一部）】 ■PS-IC ■PS ■雪 ■CS ■S-1...
メーカー・取り扱い企業： ソブエクレー株式会社
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流体せん断装置『SIO』※資料進呈＆ロボドリル用キット無料貸出中
水の水素結合を壊して加工液の浸透・冷却・潤滑性UP。「FANUC ロボ…
『SIO』は、特殊な内部構造で水を分子レベルで細分化し、 加工液の浸透・冷却・潤滑性を改良できる装置です。 砥石や工具、ワークにまとわりつくような 加工液により、加工効率を高めることが可能です。 現在、水分子と水素結合について解説した資料を進呈中。 本製品がなぜ加工効率アップに貢献できるのかを紹介しています。 【SIOの特長】 ■水の水素結合を壊して加工液を活性化し、せん...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社塩 業務基地
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150～300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）
段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジス…
現しました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！ 【特長】 ■段取り替...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …
『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置
るユニポーラ・バイポーラモードの選択、且つ基板回転機構・冷却機構・RFバイアス機構を搭載した、 優れた膜厚均一性、超高速成膜可能なPVD装置です。 ●アプリケーション SAWフィルター(SiO2膜)、圧電膜(AlN膜)、光学系(Si3N4, SiO2, HfO2, Ta2O5, Al2O3)、電子部品（Si3N4, SiO2, AlN膜、強誘電体膜）等の分野に最適なPVD装置をご提案致し...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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膜厚の測定に好適。多層膜厚み同時測定も可能な非接触ポータブル膜厚計
ます。 研究室のみならず、 現場でも使いやすいThetaMetrisis社の非接触型の膜厚計です。 【特長】 ○多層膜厚み同時測定も可能！ →例：PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2 10層までの膜厚を測定できます。 ○リアルタイムモニタリングなど 未乾燥の塗膜、硬化収縮率、膨張性、各製造工程での現場検査、成膜モニタ、化学反応、生化学反応などご利用できます。 ○光学特...
メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社
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パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。
当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッチタイプの装置です。 膜種 ：SiN/SiO2/SiONの成膜が可能です。 その他TEOS-SiO2等につきましてもご相談ください。 ウエハサイズ：最大８インチ ８インチ以下のサイズであれば制限はありません。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所
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