チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに！シリカコート

金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金…

の特性が得られます。 例えば、金属にコーティングすれば、塩酸ガスなどに対してシリカガラスの優れた耐食性が得られます。 また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。 金属表面が合成石英並みのSiO2になることにより、メタルコンタミの問題を解決できます。 先進の半導体製造プロセスでは、微量の金属汚染が製品品質や歩留まりに大きく影響するため、チャンバー、チャンバー回りパーツ、フランジ類など...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス

セラミックス製 構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

タン酸アルミ（Al2TiO5） ■ジルコニア（ZrO2） ■ムライト(Al6O13Si2) ■炭化ケイ素（SiC） ■窒化ケイ素（Si3N4） ■コージライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2) ■窒化ホウ素(BN) ■窒化アルミ(AlN) ■マシナブルセラミックス ■サイアロン ■ジルアル(ZrO2-Al2O3) ■低誘電損失アルミナ(Al2O3) ※詳しくはお問い...

メーカー・取り扱い企業： 新東Vセラックス株式会社

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt　など 　積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr　など 　酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO　など 　窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN　など 　炭化膜：SiC、Ti...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE） ＜基板ローディング＞ 〇真空クラ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

なし基板(特注ホルダー) 　・高アスペクト比サンプル(2500：1～) ■処理温度：50～500℃ ■標準処理 　・最小1桁秒までのサイクルタイムでバッチ処理が可能 　・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル 　・<1% 1σバッチ内不均一性 （Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE） ■基板の装着 ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

「ナノピンセット」リーフレット

マイクロ・ナノサイズの試料の把持が可能な微小ピンセットのリーフレットで…

【掲載内容】 ○ナノピンセットとは？ ○特長 →先端部材質：単結晶シリコン（SiO2被膜付） →数百nm～数十μmの試料の把持が可能です。 →先端を平行に開閉します。 →撥水処理を行っており、先端を液中に浸けて操作することが可能です ○アプリケーション →ウェハ上のパー...

メーカー・取り扱い企業： アオイ電子株式会社

原子層堆積装置 「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

○基板温度を抑え成膜することが可能 ○基板面内分布に優れている 【仕様】 ○φ4インチ基板、25枚一括処理 ○基板回転機構 ○基板加熱温度：25～120℃ 【対応膜種】 ○SiO2 ○TiO2 ○Al2O3 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

装置製作事例

真空装置の設計・製造ならお任せください！

）、タブテープ作成用ロールコータ 　（酸化クロム・銅）、プラスチック部品メタライズ装置、 　ワイヤー成膜要スパッタ装置、レーザービームスパッタ装置、 　実験用スパッタ装置（金・白金・チタン・SiO2） ◆蒸着装置 　ドアミラー蒸着装置、シールド膜蒸着装置、有機ＥＬ実験用蒸着装置、アルミ膜蒸着装置 ◆脱気装置 ◆関連機器、加工部品 　ガスBOX、ガス配管、真空配管、真空フ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

ASAPの特長・実績】 ●ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど多彩な薬液の使用実績あり ●Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績 ●GaAs（厚み150um）、InP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績多数！ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

Alダメージレス絶縁膜エッチング液

Al、Al合金膜を腐食することなく絶縁膜を良好にエッチングします。 …

ットエッチングによるViaやPad形成に使用可能です。 ・Pure Etch 160（ AlダメージレスSiエッチング液）の前処理液としても使用可能です。 キーワード：ウェットエッチング、SiO2、SiN、TEOS、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜...

メーカー・取り扱い企業： 林純薬工業株式会社 電子材料部