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高品質のALD膜を作り出す!MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…
なし基板(特注ホルダー) ・高アスペクト比サンプル(2500:1~) ■処理温度:50~500℃ ■標準処理 ・最小1桁秒までのサイクルタイムでバッチ処理が可能 ・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル ・<1% 1σバッチ内不均一性 (Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE) ■基板の装着 ...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例
ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例を写真付き…
く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ・Al2O3/Ta205ナノラミネート ・SiO2 ■光学薄膜 ・Al2O3/Ta205 (7nm/2nm) ナノラミネート ■MEMSデバイス ・アクチュエーター、RFフィルター、MEMSスイッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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