SiO2 | イプロスものづくり

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

条件で製膜をする事が可能です。プラズマ処理装置を用いた市場に類を見ない画期的な設備です。量産用途からR&D用途まで多用途にお使いいただけます。プラズマによる表面処理で濡れ性改質、そしてSiO2コーティングを同じ機械で行うことが可能です。プラズマコートを行わない場合は通常のプラズマ処理機として塗装やインクの接着の前処理機としてもお使いいただけます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル　・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。低粘度～高粘度レジス…

現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、IｎP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！【特長】 ■段取り替...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッチタイプの装置です。膜種　　　　：SiN/SiO2/SiONの成膜が可能です。　　　　　　　その他TEOS-SiO2等につきましてもご相談ください。ウエハサイズ：最大８インチ　　　　　　　８インチ以下のサイズであれば制限はありません。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本生産技術研究所

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

いたします。ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs（厚み150um）、InP（厚み150um）、LT（厚み120um）など薄い基板の搬送実績も多数あります！設計から製造・販売まで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品, 　自動車・樹脂, 特...

メーカー・取り扱い企業：芝浦メカトロニクス株式会社

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サーマプレシジョン

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Dif...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

モリブデンの酸化防止・耐食コーティング　『SIBOR』

SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。（プランゼ…

大気中では基材側で硬い拡散層が形成されると共に、大気との反応により表面に形成される SiO2層が部材における酸化の進行を防止しています。 SIBORコーティングを施したモリブデン部材は、モリブデン固有の耐熱性と耐食性に高温での耐酸化性能が付与されている為、ガラス炉における理想的な部...

メーカー・取り扱い企業：プランゼージャパン株式会社