ユニフォームプラズマスパッタ装置

均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング

【特長】 ●均一なプラズマ分布 ●独立したプラズマ室 ●基板温度100℃以下の低温スパッタ(SiO2，2KW，1時間) ●基板へのプラズマ衝撃フリーにより緻密な膜の形成・組成ずれのない合金膜 ●CVDのような特殊なガスを使わず、ターゲット間を電子が高速で往復することでスパッタ粒子(ターゲット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ