原子層堆積装置 「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

○基板温度を抑え成膜することが可能 ○基板面内分布に優れている 【仕様】 ○φ4インチ基板、25枚一括処理 ○基板回転機構 ○基板加熱温度：25～120℃ 【対応膜種】 ○SiO2 ○TiO2 ○Al2O3 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空