SDGs貢献と循環型社会の実現へ！　リサイクル樹脂材料

PR環境配慮型製品の開発にお役立ていただけるプラスチック材料各種をはじめと…

我が国は資源小国であり他国に資源を依存しています。また、人類80億人時代にたった1度の使用で物を廃棄することは資源効率が不十分であると思います。 そうした考えのもと、当社ではリサイクル材料を各種開発・販売しております。これらのリサイクル材料等を活用した製品を設計・開発していただくことで、循環型社会の実現やSDGsの達成に貢献することが可能です。 【リサイクル材料のご紹介】 ・エコマー...

メーカー・取り扱い企業： 緑川化成工業株式会社 本社

OPTO DIODE社　XUV−UV検出用Siフォトダイオード

軟Ｘ線〜UV領域での内部量子効率がほぼ100％

.E.), 耐放射線性, 高ダイナミックレンジ ‐ 較正可能：米NIST・独PTB・（産業技術総合研究所**） ** 波長によっては対応できません。 ★シリーズ★ ‐AXUVシリーズ：SiO2層6−8nm・100%Q.E. フォトン検出領域（0.04nm〜1100nm） 低エネルギー　エレクトロン・イオン ‐UVGシリーズ：SiO2層40−150nm・100％Q.E. ...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。 現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系）、グラフェン膜、グラファイト ＊SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。 ＊Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。 ＊レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

I以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

規作成での対応も可能です。 新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。 直径：3inch-12inch SOI層：2-200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） 数量：在庫品の場合は数枚程度から対応可能 ＊お手持ちの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

カソード ルミネッセンス 分光装置　SPARC

マイクロフォトニック構造研究用の高感度で複合機能を持つ高分解能角度分解…

SPARCの能力 SPARCはディープ・サブ波長の分解能でナノ・マイクロ構造のフォトニック研究に適した真に独特な分析手法です。 金属質（プラズモニック、Ag、Au、etc）、誘電体（SiO2、Si3N4、TiO2、etc）や半導体（Si、GaAs、CdTe、etc）のマイクロ・ナノフォトニック構造およびその関連材料の研究に有用です。...

メーカー・取り扱い企業： エルミネット株式会社

『パターンウェハ』 受託製造サービス

当社標準レイアウトからカスタムレイアウトまで、お客様のニーズに応じたウ…

、当社の専門性が光ります。 私たちが提供するパターンウェハは、Line&Spaceからホールパターン、ピラーパターンといった標準レイアウトを取り揃えています。また、材料選択においても、Si、SiO2、Poly-Si、レジストなど、お客様の多岐にわたる要望に柔軟に応えることができます。さらに、標準レイアウトに縛られず、カスタム設計も承っております。お客様のパターンレイアウト案に基づき、専用CA...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック　 本社

テストウエハ

材料や装置評価のためのブランケット膜及びパターニングされたウエハをご提…

構造を開発致します。 また、シリコン基板以外のウエハにも対応が可能ですので、お気軽に ご相談ください。 【製品詳細(一部)】 ■ブランケット膜ウエハ：熱酸化膜、LP-TEOS、P-SiO2、P-TEOS　など ■パターニングウエハ：L/Sパターン、Holeパターン　など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ティーイーアイ ソリューションズ株式会社 つくば研究所

イオン注入シミュレーション

ご要望のイオン種や深さ、濃度に合わせてシミュレーションが可能です。

　深さ、濃度から注入条件を計算 ・ボックスプロファイル 　多段注入条件の計算 その他のシミュレーション ・熱処理後の拡散 　熱処理前後でのプロファイル計算 ・多層構造の計算 　SiO2等の膜厚最適化 ただし、シミュレーションは注入後のプロファイルや濃度を保証するものではごさいません。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

『半導体薬液』なら弘田の製品！

高品質な半導体薬液をリーズナブルな価格で！貴社の仕様に合わせた、オーダ…

【製品ラインアップ】 ■単酸 弗化水素酸、弗化アンモニウム溶液、塩酸、硝酸、硫酸、過酸化水素水 ■混酸類 　TH-H、NC-1C、エッチング液（SiO2,AI,Mo,Ti,etc） ■CMPスラリー 　W,Cu用スラリー、各種分散剤 ■界面活性剤 　帯電防止剤、濡れ向上剤、E/R抑制剤 ■その他 　レジスト剥離液（PUMS/HP-73...

メーカー・取り扱い企業： 弘田化学工業株式会社 東京工場

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例を写真付き…

く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ・Al2O3/Ta205ナノラミネート ・SiO2 ■光学薄膜 ・Al2O3/Ta205 (7nm/2nm) ナノラミネート ■MEMSデバイス ・アクチュエーター、RFフィルター、MEMSスイッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

Implantation Simulation

Simulation for ion species, depth a…

heat treatment ・ Multi-layer structure calculation Optimization of film thickness such as SiO2 However, the simulation does not guarantee the profile or concentration after implantation....

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社