SiO2 | イプロスものづくり

PR環境配慮型製品の開発にお役立ていただけるプラスチック材料各種をはじめと…

我が国は資源小国であり他国に資源を依存しています。また、人類80億人時代にたった1度の使用で物を廃棄することは資源効率が不十分であると思います。そうした考えのもと、当社ではリサイクル材料を各種開発・販売しております。これらのリサイクル材料等を活用した製品を設計・開発していただくことで、循環型社会の実現やSDGsの達成に貢献することが可能です。【リサイクル材料のご紹介】・エコマー...

メーカー・取り扱い企業：緑川化成工業株式会社本社

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

条件で製膜をする事が可能です。プラズマ処理装置を用いた市場に類を見ない画期的な設備です。量産用途からR&D用途まで多用途にお使いいただけます。プラズマによる表面処理で濡れ性改質、そしてSiO2コーティングを同じ機械で行うことが可能です。プラズマコートを行わない場合は通常のプラズマ処理機として塗装やインクの接着の前処理機としてもお使いいただけます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

PD-270STPは、液体ソースのTEOSによるシリコン酸化膜（SiO2）形成用の低温、高速プラズマCVD装置です。カソード側の高いシース電界で得られるイオンエネルギーにより、薄膜から厚膜までのシリコン酸化膜を低ストレスで形成することが可能です。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル　・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッチタイプの装置です。膜種　　　　：SiN/SiO2/SiONの成膜が可能です。　　　　　　　その他TEOS-SiO2等につきましてもご相談ください。ウエハサイズ：最大８インチ　　　　　　　８インチ以下のサイズであれば制限はありません。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本生産技術研究所

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Dif...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

設置面積：48x48cm 基板サイズ：最大4インチプレカーサー材料：５系統方式：ホットウォール型熱式チャンバー温度：最高350℃ プロセスレシピの例：Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, ZrO2, Pt, Ru カスタマーレシピ作成モードもありますインターロックと安全機構付き ...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

各種＜処理温度と容量＞〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE）＜基板ローディング＞〇真空クラ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

プラズマCVD装置

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでの...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

プラズマCVD装置

なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成を目的としており、最先端の研究からセミ量産まで幅広く対応可能です。...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社