小型射出成形機標準装備のホットランナー、廃材削減でコストセーブ！

PRエプソンテックフオルムの小型射出成形機が標準搭載するホットランナーは廃…

射出成形で課題となるのが成形によって発生する廃材です。所謂スプルー、ランナーと呼ばれる部分になりますが、これは成形機の仕様、金型仕様、部品仕様によって程度は様々です。ここではエプソンテックフオルムの小型射出成形機『AEシリーズ』が標準搭載しているホットランナーと一般的なコールドランナーの構造比較から発生し得る廃材量の違いについて説明します。 ■その１　２個取り　サイドゲートの場合（図１参照）...

メーカー・取り扱い企業： エプソンテックフオルム株式会社

ロボット導入をゼロからサポート！ファイバーレーザーロボット架台

PRファイバーレーザーを行う協働ロボット、光漏れがない高精度な架台を一体化…

当社では、ファイバーレーザーを行う協働ロボット「CRX-5iA」、 架台、必要な機器をセットアップしたワンパッケージで提供する 「ファイバーレーザーロボット架台」を提案しております。 ファイバーレーザーと協働ロボットの組み合わせにより、 一品物の溶接でも熟練度に依存しない安定した溶接品質を実現。 架台へのロボット搭載、配線、入電の確認を行い、 すぐにお使いいただける状態でお届け...

メーカー・取り扱い企業： エヌアイシ・オートテック株式会社 東京本社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

スパッタリング成膜

高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！

で、薄膜を形成する方法です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 スパッタリング法によるコーティングサービスも行っております。 現在、スパッタリング法での対応膜種は、Ti、TiN、TiCの３膜種とさせていただいております。...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社