• 廃液減容化装置『蒸発・濃縮装置 (電気式小容量)』 製品画像

    廃液減容化装置『蒸発・濃縮装置 (電気式小容量)』

    PR臭気成分などを熱分解して排気!廃液処理のコスト削減を可能に!

    本装置は、電気ヒーターで廃液中の水分を蒸発させて濃縮し、 蒸発時に発生する臭気成分などを熱分解して排気する、廃液減容化装置です。 水溶性切削液、水溶性研削液などの含油廃液の場合は濃縮油を有価物にする事も可能です。 【特徴】 ■廃液処理のコスト削減可能 ■高温、高粘度、スラッジ含有濃縮液の自動排出機構 ■排熱利用の省エネ機構 ■脱臭触媒を標準設置して排気ガスに臭気・煙が出ない ...

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    メーカー・取り扱い企業: プリテクノジャパン株式会社

  • 3500V高圧ソースメータ 製品画像

    3500V高圧ソースメータ

    PR±3500V高圧ソースメータ

    ・±3500V/±120mA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M ACD ・最大10GΩ測定...・±3500V/±120mA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M ACD ・最大10GΩ測定...

    メーカー・取り扱い企業: Semi Next株式会社

  • NCヒータ 100V-650Wシリーズ SUS BASE 製品画像

    NCヒータ 100V-650Wシリーズ SUS BASE

    半導体乾燥に好適!当社のヒーターをご紹介

    当社で取り扱う「100V-650Wシリーズ(NCH型)」についてご紹介いたします。 半導体シリコンウエハの乾燥工程などに代表される 銅の付着による汚染を極力抑えられるように エアーの通り道に銅線などが露出していないことはもちろん、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東洋テクニカル

  • Wタングステンとその合金のウエハとシート 製品画像

    Wタングステンとその合金のウエハとシート

    Wタングステンとその合金の超薄高精度加工

    高融点レアメタルとその合金材料の精密加工 Mo,MoCu,WWCu 高融点レアメタルは高融点、高密度、高耐腐食、耐磨耗性、十分な電気抵抗、低熱膨張率と良い熱伝統率、高放射線吸収性など独特な特性を持つ、医療、電子、半導体など、幅広い分野に応用されております...

    メーカー・取り扱い企業: ルータ株式会社

  • UV レーザー ナノ秒パルス空冷コンパクト一体型 製品画像

    UV レーザー ナノ秒パルス空冷コンパクト一体型

    レーザーヘッドとコントローラが一体化。 水冷モデルもあり。

    コンパクトな空冷モデルでありながら最大5W出力@50KHz。 リアルタイムパワーモニタリング機能、オートアライメント機能、 オンデマンドクリスタルシフト機能が装備され、生産ラインで使用時の 信頼性が向上しました。...

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    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像

    CZウェーハ 成膜加工

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、WW-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト *SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • UVオゾン洗浄改質装置 製品画像

    UVオゾン洗浄改質装置

    卓上式UVオゾン洗浄改質装置です。☐150~350まで各種製作可能

    入力電圧 単相200V、オゾン分解触媒装備 ■CUVD25U-03 装置外形:W400×D400×H280 試験台サイズ:w150×d150×h20 装置重量(Kg)20 ランプ搭載本数(本):3 消費電力:AC100V50/60Hz100W ■CUVD40U-04 ...

    メーカー・取り扱い企業: コスモ技研株式会社

  • 266nm ナノ秒パルス 固体レーザー 製品画像

    266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

    産業用 266nm パルスレーザー 0.5W-3Wモデル

    高品質なビームと安定した出力性能により、高精度で均一な加工を実現します。独自のPWFパワー制御はビーム品質を保ったまま出力を変更することができます。再現性が高く、加工パラメータの設定を容易にします。...

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    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

  • DUV CW深紫外半導体レーザーシステム 製品画像

    DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

    193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…

    ー、光学テスト&検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。 本レーザシステムはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されてきたガスレーザーより優...

    メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部

  • ウエハーケース(衝撃緩和クッション付ウエハー保管/搬送ケース) 製品画像

    ウエハーケース(衝撃緩和クッション付ウエハー保管/搬送ケース)

    衝撃や振動による破損防止!!

    ■4インチウエハー専用搬送ケース 極薄のウエハーなど割れやすいウエハーを安全に保管・搬送できます。 W-4CC-40は、視認性に優れた高透明樹脂(本体・フタ)を使用しています。 W-4BB-40は、低アウトガス性の導電性樹脂(本体・フタ)を使用しています。 低アウトガス性のクッションは、非シリコ...

    メーカー・取り扱い企業: サカセ化学工業株式会社

  • Moモリブテン シート&ウエハ 製品画像

    Moモリブテン シート&ウエハ

    Moモリブテンとその合金の超薄い高平面度製品加工

    モリブテンMoとタングステンWは高密度、高融点、低熱膨張係数を持つ金属で、MoCu,WCu合金の割合により、最適な熱膨張係数素材をつくり、半導体LEDチップのヒートシンクとして応用されております。MoとWその放射線遮蔽性は医療機...

    メーカー・取り扱い企業: ルータ株式会社

  • 蛍光X線式 膜厚測定器 微小部測定用『 XDV-μ 』 製品画像

    蛍光X線式 膜厚測定器 微小部測定用『 XDV-μ 』

    ポリキャピラリX線光学系を採用。微小部の薄膜メタライズ、高機能めっきの…

    器:シリコンドリフト検出器(SDD) ■X線管球:マイクロフォーカスチューブ ■プライマリフィルター:4種類 ■本体寸法:660×835×720mm(幅×奥行×高さ) ■消費電力:最大120W ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    メーカー・取り扱い企業: アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

  • 小型プラズマクリーナー『KNPC-1』 製品画像

    小型プラズマクリーナー『KNPC-1』

    12インチリング付きウェハ処理が可能! 表面改質、無機物/有機物汚染…

    プ基準値:0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算※ビル    ドアップ基準値:0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算 ・RFパワー制御:13.56MHz/100~1,000W ・プロセスガス流量制御:設定値に対して±10%以内 ・エッチング性能 無機物エッチングレート:平均20nm/min以上±20% 有機物エッチングレート:平均500nm/min以上±20% ...

    メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社

  • 蛍光X線式 膜厚測定器  汎用測定器『 XDLM 237 』 製品画像

    蛍光X線式 膜厚測定器  汎用測定器『 XDLM 237 』

    汎用性が高く、電子部品やさまざまな形状のめっき加工品などの膜厚測定や素…

    【仕様(抜粋)】 ■電源:AC115VまたはAC230V 50/60Hz ■消費電力:最大120W(PCを除く) ■保護クラス:IP40 ■寸法:幅570x奥760x高650mm ■測定室内の寸法:幅460x奧495x高146mm ■重量:120kg ※詳しくは、お気軽にお問い合わ...

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    メーカー・取り扱い企業: アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

  • 真空UV硬化装置『KNUV-1』 製品画像

    真空UV硬化装置『KNUV-1』

    真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! 最大8インチまでのウ…

    [主要諸元] 装置寸法 590 mm(W) x 480 mm(D) x 880 mm(H) 照射エリア Φ 210mm [標準] 最大 φ300mm 装置質量 200 kg ポンプ含まず 電 源 単相 AC200V 10 50/60...

    メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社

  • 高速ハンドラー装置 部品移載機『BITA-1,2』 製品画像

    高速ハンドラー装置 部品移載機『BITA-1,2』

    最大25,000UPHの高速移載 高精度/ ダメージレス収納 様々…

    更に向上させる高さ計測ユニット、収納後の部品状態を確認する収納後検査など、様々なオプション機能を準備しています。また、部品に応じたノズルも多数ラインナップしています。 装置寸法 1,200 mm(W) x 1,300 mm(D) x 1,800 mm(H) 装置質量 800 kg 電 源3 相 AC200/220/240/380/400/415V 10 50/60Hz 5kVA エアー...

    メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社

  • 半導体製造装置 ピック&テーピング装置『MAG-PT』 製品画像

    半導体製造装置 ピック&テーピング装置『MAG-PT』

    最大10pc/secの高速ピックアップ技術で高生産性を実現!独自技術に…

    5段) ■チップ位置決め方式:画像認識による非接触 ■適用テープ:8、12mm幅エンボステープ(EIAJ規格) ■外観検査機能:インクマーク(NGマーク)、バンプ有無 ■外形寸法:1500(W)×1300(D)×1900(H)mm(シグナルタワーは除く) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ハイメカ株式会社

  • 半導体製造装置 ピック&テーピング装置「HPT-05FH」 製品画像

    半導体製造装置 ピック&テーピング装置「HPT-05FH」

    0.3mm以下のチップにも対応!電子部品の極小化に対応した次世代製造装…

    ■適用  対象品種   WLCSP、CSP  チップサイズ   0.3 ~ 8.0 mm  ウェハサイズ   6インチ、8インチ、(12インチ対応開発中) ■主な装置仕様  サイクルタイム  0.25 〜 0.3...

    メーカー・取り扱い企業: ハイメカ株式会社

  • 循環脱気装置 UDS001A-WT90 製品画像

    循環脱気装置 UDS001A-WT90

    超音波洗浄の洗浄力を飛躍的にUPさせる!

    脱気方式 :循環脱気(溶存酸素量3mg/ℓ以下) 水量 :1.2~36ℓ/min(インバーター可変切替) 使用水温 :水又は温水 0~90℃ 筐体サイズ :W250mm×D500mm×H215mm 重量 :13kg 電源 :AC100V 3A ホースサイズ :20A(IN、OUT共)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アクセス21

  • 【技術資料進呈中!】ウェーハ研磨加工プロセスと加工素材&技術紹介 製品画像

    【技術資料進呈中!】ウェーハ研磨加工プロセスと加工素材&技術紹介

    数百種類以上の半導体素材の研磨を扱っている技術を紹介!各種ウェーハの研…

    NbO3(LN)、ZnO、 水晶、サファイア、サファイア再生、etc ■化合物材料:GaN、 SiC、GaP、GaAs、GaSb、ZnS、ZnTe、etc ■金属素材:SUS、Au、Ag、Cu、W、Ti、Al、etc ■その他:Ge、C、MnZnフェライト、TeO2、樹脂材料、etc 【掲載内容(抜粋)】 ■研磨加工プロセス(代表例) ■研磨工程のご紹介 ■洗浄工程のご紹介 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エクシード株式会社

  • 株式会社SGC 非鉄金属部品製作 製品画像

    株式会社SGC 非鉄金属部品製作

    既存パーツの改造や特殊工具の製作など各消耗パーツ以外でも1個から製作を…

    希望サイズに切断を致します)。 ○主な加工材質:ステンレス(SUS)・チタン(Ti)・アルミニューム(AL)・銅(Cu)・ニッケル(Ni)・インコネル(INC)・モリブデン(Mo)・タングステン(W)・タンタル(Ta)等。 ○消耗パーツ以外でも1個から製作を承ります。 ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SGC

  • 同軸バレル型アッシング装置 製品画像

    同軸バレル型アッシング装置

    同軸バレル型プラズマ装置

    半導体ウエハや小型基板のフォトレジストのアッシング用途の他、等方性プラズマによる全方向からの処理を利用されたい場合に有効です。 量産用自動機は50枚一括処理のYSP650Wをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社

  • 【CMP用テストウエハ】MIT W pattern Wafer  製品画像

    【CMP用テストウエハ】MIT W pattern Wafer

    国内マスプロダクションで製造した、デバイスグレートに近いパターンウェハ

    アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 国内マスプロダクションで製造した デバイスグレートに近いパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできています。  非常に高品質なテストウェハとなっております。 200mm、300mmにて対応可能で...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【パターンウェハ】MIT W pattern Wafer  製品画像

    【パターンウェハ】MIT W pattern Wafer

    国内マスプロダクションで製造した、デバイスグレートに近いパターンウェハ

    アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 国内マスプロダクションで製造した デバイスグレートに近いパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできています。  非常に高品質なテストウェハとなっております。 200mm、300mmにて対応可能で...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • Moモリブテン Epi ウエハ 製品画像

    Moモリブテン Epi ウエハ

    Moモリブテンとその合金の超薄い高平面度製品加工

    モリブテンMoとタングステンWは高密度、高融点、低熱膨張係数を持つ金属で、MoCu,WCu合金の割合により、最適な熱膨張係数素材をつくり、半導体LEDチップのヒートシンクとして応用されております。MoとWその放射線遮蔽性は医療機...

    メーカー・取り扱い企業: ルータ株式会社

  • 【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ) 製品画像

    【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ)

    成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…

    OS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系  Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ) 製品画像

    【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ)

    成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…

    OS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系  Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

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