PVD CVD コーティング膜の特性と選定方法 【下地処理編】

PR金型に適したコーティング（PVD , CVD)を選定できてますか？工具…

ピーニングや窒化といった金型向けの下地処理は、硬質膜と併用することで金型の工具寿命は飛躍的に向上させることが知られています。 今回は当社が行う下地処理であるDM処理と窒化処理について解説しています。 【掲載内容】 ■硬質膜の特性と間違えない選び方 ■当社独自のDM処理について ■窒化処理（FA窒化）について ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問合せください。......

メーカー・取り扱い企業： フジタ技研株式会社

イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

PRR＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用途に採用。 また新開発のアーク放電式マグネ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。 ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店