脱炭素化技術に挑戦！熱技術研究所のご紹介【2024最新情報！】

PR開設１周年！約80社のお客様にご来場いただきました。水素燃焼ガスバーナ…

２０２３年５月に開所した「熱技術研究所」、この一年で数多くのテストを行ってまいりました。 ～テスト設備概要～ ◇アルミ手許溶解保持炉 水素燃焼溶解による「溶湯品質」「溶解効率」を検証テストが可能。実機ベースのアルミ溶解炉です。 溶解能力：150kg/h 溶解：水素燃焼ガスバーナー 保持：電気ヒーター ◇塗装乾燥炉（試験設備） 実際の生産現場と遜色ない設備を使い、4 つの熱源でテストが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社正英製作所

切断面もキレイに！【CNCプラズマパイプ自動切断機とは】

PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能！枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…

当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業（型紙墨入れ+実切断時間）に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 　・直角切断 　・斜め切断 　・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エトロンシステム

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC側で...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社