手作業と比べ1/60以下の時間短縮『CNCプラズマ自動切断機』

PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能！枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…

当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業（型紙墨入れ+実切断時間）に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 　・直角切断 　・斜め切断 　・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エトロンシステム

CNCパイプベンダー『YLM社製』　

PR3Dシミュレーションを標準装備、油圧シリンダではなくサーボ化しており精…

当社は、台湾台南市に拠点を置くYin Han Technology社の パイプベンダー「YLM」の正規代理店です。　 YLM社製パイプベンダー『CNCシリーズ』は、サーボでの後方加圧機能も 標準装備し、難易度の高い1D曲げも標準タイプで曲げられます。 また、ワーク形状が3Dで表示し、入力結果の確認が容易で入力ミスによる 形状間違い等を防止します。 加工事例については資料ダウンロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社N.K.Y

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC側で...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

耐熱衝撃性に優れたバランスの良い『窒化珪素(Si₃N₄)』

耐熱性があり、かつ耐熱衝撃性にも優れている『窒化珪素』は、機械的強度も…

曲げ強度などの機械的な特性に優れ、熱的にも急熱・急冷に強く、ワレ・カケ・折れにくいことが特徴です。 高温で使用できるため、溶接治具などに使用すると、他のセラミックの使用に比べて長寿命化が期待できます。 ＜特徴＞ ・耐熱衝撃性に優れた材料で、高温まで強度が低下しない。 ・熱膨張率が低く、耐熱衝撃性が極めて高い。 ・機械的強度、靭性、耐摩耗性、耐食性に優れている。 ※詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社清水商会

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高効率高周波電源

高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】

NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプにより、飛躍的に耐久性をUPさせました。 高効率アンプの弱点は、構造上、反射電力に弱いことでしたが、、NRFの高効率RF電源は、出力3kWに対して、実に600W以上の耐反射能力を持ち、短絡・開放の急激な負荷変動に耐えます。 また、各種保護回路を設...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 　・低負荷・長周期メンテナンス 　・コンパクト筐体...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

縁試験： 下記DCテスト電圧にて10秒間 ○絶縁抵抗： 20,000MΩ(最小値：@100VDC) ○温度係数： N5500(±1000ppm/℃) ○端子強度： 最大トルク・・20[inch・lbs] ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ポーラスシリコン形成装置（陽極酸化装置）

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...【特長】 ■多孔質シリコンを全自動にて形成します。 ■裏面保護用治具を使用しない為カセットto カセットを可能にしました。 ■N...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...ＣＶＤ装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

メーカー・取り扱い企業： エヴァンリード株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

● トレーカセット方式を採用。 　 1. 搬送時間短縮により高スループットを実現。 　 2. トレー変更によりφ2インチ〜φ8インチのウエハーに対応可能。 ● 真空カセット室を採用。 　 1. 1カセット1回の真空排気により高スループットを実現。 　 2. コンタミネーションの影響回避やウエハー表面の酸化を防止。 ● 納入実績の豊富なPD...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

大流量セラミックガスフィルター

流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…

【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar（バルクガス）です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min（60〜180m3/Hr）です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社