• GaN半導体 MOCVD用機能部品 製品画像

    GaN半導体 MOCVD用機能部品

    高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ…

    Momentiveの『超高温用ヒータ』、『窒化ホウ素製品群』および『グラファイト保護コーティング』は、高温の腐食性ガス雰囲気に耐性があり、窒化物単結晶成長やエピタキシャル装置の機能部品として多くの実績を有しております。 ■超高温ヒータ ・超高温(1500℃以上)での使用が可能 ・腐食性ガス雰囲気に耐性がある ・色々な形状にも対応でき、設計の自由度が高い ■その他機能部品 ・MOCV...

    メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

  • 【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション 製品画像

    【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション

    今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧…

    半導体の高精度化と微細化、またその半導体を必要とする分野が急速に拡大することに伴って、現在半導体製造におけるプロセス装置は今まで以上に高電圧化が進みながら、装置自体の小型化が強く求められています。 レモコネクタは、今後の半導体製造装置の進化に対してプッシュプル・小型高電圧製品で「お客様の電圧増加・省スペース化の課題を解決」いたします。 ●高電圧: 最大50kVDCまで対応可。単極・多極・...

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    メーカー・取り扱い企業: レモジャパン株式会社

  • 2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援 製品画像

    2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

    光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

    古河電気工業(株)でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を5年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。 私が担当した1980年後半から通信バブル崩壊するまでは毎年線引速度が高速化しプリフォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉...

    メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉

  • 株式会社九州日昌 事業紹介 製品画像

    株式会社九州日昌 事業紹介

    電熱機器のエキスパートとしてお客様の加熱工程をトータルサポート

    多様な分野の製品における製造工程で、貴重な役割を果たす加熱工程。 私たち、株式会社九州日昌はその技術を駆使してお客様をサポートし、新たな付加価値の創造を目指しています。 お客様のニーズにただそのまま応えるだけでなく、その背後にある課題を見つけ出して、より高い水準の提案をすること。 たとえ既存の技術・機械を使う場合でも、何らかの発見や創意を盛り込んでいく。 それが、私たちの技術力や企業力を伸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社九州日昌 東京営業所

  • ASMPT社製 フリップチップボンダー/ダイボンダー  CoS 製品画像

    ASMPT社製 フリップチップボンダー/ダイボンダー  CoS

    CoS (Chip on Submount )は高精度ダイ/フリップチ…

    CoS アライメント精度:±3µm@3σ アプリケーション:レーザーアプリケーションが主 同社製品では、レーザー加熱を採用しており、パルスヒータと比べ 高速に加熱実装が可能となります。 サイクルタイム:5~15 sec/chip 接合方法:共晶はんだ、エポキシ、UV硬化樹脂、レーザー接合 ※超音波接合は非対応 〇その他ダイボンダー/フリップチップボンダー装置 アライメント...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • パイロリティックボロンナイトライド(PBN) 製品画像

    パイロリティックボロンナイトライド(PBN)

    高純度、高熱伝導、軽量で靭性があり、高い耐熱衝撃性を発揮する高温セラミ…

    『パイロリティックボロンナイトライド(PBN)』は、高い電気絶縁性と優れた熱伝導性を併せ持つ異方性の熱分解窒化ホウ素です。 色々な形状に蒸着製造または薄板などへの加工が可能。軽量で化学的耐性があり、耐熱衝撃性に優れた特性を有しているため高温での用途に適しています。 真空、半導体、エレクトロニクス、冶金、薄膜形成、蛍光体などで幅広く使用されています。 【特長】 ■無毒(人体に無害) ...

    メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

    【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

    超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:Φ2〜6inch 真空(UHV対応可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式) ◉ 基板回転 ◉ RF(1...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 排気配管内N2ヒーター(コントローラ内蔵型) 製品画像

    排気配管内N2ヒーター(コントローラ内蔵型)

    配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

    半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用N2ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...CVD装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

    メーカー・取り扱い企業: エヴァンリード株式会社

  • 空気加熱ヒーター PF100 製品画像

    空気加熱ヒーター PF100

    はんだ付け予熱、樹脂硬化、洗浄後の乾燥、その他非接触の加熱工程に!25…

    空気加熱ヒーターユニット。温度コントローラーとの組合せにより、簡単に非接触での加熱が可能です。 加熱工程、乾燥、硬化、はんだ付けなど 幅広いアプリケーションに摘要可能です。 設定温度範囲、流用、取付アングルなどは各仕様により製作が可能となっています。...温度設定範囲:50-250℃ 送風排出免責:100×100(mm) 取付アーム距離:250mm 設置方法は自立型、他 加熱気体:空気...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社MSAファクトリー

  • 遠赤外線ヒーター 製品画像

    遠赤外線ヒーター

    真空状態やクリーンルームでも使用可能!設計の自由度が高い遠赤外線ヒータ…

    基板にステンレスを採用することで、セラミックヒーターの高い応答性のままで、セラミックヒーターにはできなかった大判化を実現したヒーターです。その他次のような特徴があります。 ●クイックレスポンス(応答性) ●高い効率のIR(遠赤外線)特性が得られる ●設計の自由度が高い(形状・W密度) ●クリーンルームでの使用が可能 ●真空中での使用が可能...基板にステンレスを採用することで、セラミック...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社美鈴工業

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