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    Y形3方ボールバルブ

    PR流路にアルミナセラミックスリーブを採用し、耐摩耗性を強化しました。金属…

    特長 ■空気輸送用に開発された3方ボールバルブで、圧力損失が少ない構造です。 ■流路にはアルミナセラミックスリーブを採用し、耐摩耗性を強化、金属コンタミも防ぎます。 ■スリーブ方式のため剝離しにくく、かつ異なる内径の組み合わせて流れ方向の凸部をなくしました。 ■シートリングには強化PTFEを採用し、アルミナセラミックカラーで流路から隔離しています。 ■インレットブランチとアウトレットブラ...

    メーカー・取り扱い企業: アイシン産業株式会社

  • ◆パイロット ファインセミックス◆ <展示会出展> 製品画像

    ◆パイロット ファインセミックス◆ <展示会出展>

    PR高純度アルミナ、ジルコニアのセラミックスで微細孔・多孔貫通孔の押出成形…

    パイロットはシャープ芯の押出成形技術を生かし、 微細な貫通孔のセラミックス製造を得意としています。 単孔のパイプ状から多孔のフィルター状の物まで製作いたします。 外径Φ0.2~Φ8、内径Φ0.005~、長さ120mm程度までの 高純度アルミナ、ジルコニア、窒化アルミを提供。 異なる孔径の組合せや異なる外形状と内形状の組合せなども可能ですので お気軽にご相談ください。 【セラミックの性質】 ■...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パイロットコーポレーション

  • アルミナ溶射材『SURPREX AW・AHP』 製品画像

    アルミナ溶射材『SURPREX AW・AHP』

    耐摩耗性、化学的安定性、絶縁性など優れた皮膜特性が得られるアルミナ溶射…

    溶融-粉砕法で作製されたアルミナ溶射材料です。 耐摩耗、絶縁部品に使用されるホワイトアルミナ(AW)と、半導体、FPD製造装置などに使用される高純度アルミナ(AHP)を用意しております。 高純度アルミナ粉末の溶射では黒点...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド

  • マイクロ波イオン源 EMIS-221C 製品画像

    マイクロ波イオン源 EMIS-221C

    マイクロ波イオン源 EMIS-221C

    ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で  金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など  各種超高真空装置に使用可能 ○加速用高圧電源(オプション)の使用により、イオン加速が可能  ...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム 製品画像

    【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

    イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

    つばさ真空理研株式会社の『高耐食性Y2O3(酸化イットリウム)膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの...

    メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

  • 超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201 製品画像

    超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201

    超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201

    ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて 使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源 【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • ICPプラズマエッチング装置『SERIO』 製品画像

    ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

    平滑なエッチング面と高い加工精度を実現!サンプルテスト対応いたします!

    ロードロック室 エッチング室各1室構成        ※量産用 マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板:~φ8インチウェハ形状品(矩形基板対応可能) ■対応基板:Si、石英、セラミックス(アルミナ、AlTiC等)ガラス、       圧電体(LT,LN)等 ■エッチング対象:基板Si、石英、          各膜種 Si系(SiO2、SiN)・有機膜 等 ■対象プロセス:Si深掘り、Si...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 高純度イットリア溶射材 製品画像

    高純度イットリア溶射材

    耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末…

    D製造装置に使用されるため高い純度が要求されます。 これに応えるためフジミでは厳密な品質管理のもと高純度イットリア溶射材を製造しています。 イットリア粉末を用いた溶射皮膜(コーティング)はアルミナ粉末を用いた溶射皮膜よりも優れた耐プラズマエロ―ジョン性を有しています。 【用途例】 高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、半導体、FPD(OLED、L...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド

  • 半導体製造装置用部品に特化! 海外製セラミックのご紹介 製品画像

    半導体製造装置用部品に特化! 海外製セラミックのご紹介

    静電チャック、ピンチャック等の調達にお困り事があった方は必見! 海外…

    【対応領域】 材料提案から対応可能。 ※ESCはパターン製作も対応可能です! 【対応材質】 アルミナ(Al2O3) ジルコニア(ZrO2) イットリア(Y2O3) 窒化アルミ(AlN) 炭化ケイ素(SiC) 窒化ケイ素(SI3N4) などの対応が可能です。 【対応サイズ】 8インチ、...

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    メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課

  • 【エージング時間が大幅短縮!】耐プラズマ耐食性YOF保護膜 製品画像

    【エージング時間が大幅短縮!】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

    時代はY2O3からYOFへ!エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

    成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる...

    メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

  • アルミナ・短納期・石原ケミカル株式会社 製品画像

    アルミナ・短納期・石原ケミカル株式会社

    位置決め治具、半導体製造装置用部材、高温絶縁材に!

    石原ケミカルではマシナブルセラミックスでの実績をもとに、高品質の加工品を短納期で提供します。...エンジニアリングセラミックスを代表する素材で優れた機械的、電気的性質をもちます。比較的大きなサイズに対応可能です。 ◎より詳しい掲載内容につきましては、直接お問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 石原ケミカル株式会社 高機能材料

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