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PRアルミ腐食を避けながら、鉱油汚れのみをスッキリ洗浄!
金属アルミを腐食させることなく、潤滑油・グリス・機械油・切削油といった“鉱物油”系の汚れを綺麗に落とします。エスポ化学の「オイルパルシリーズ」の中では最高クラスの洗浄力をぜひお試しください。 <製品の特長> ■潤滑油・グリス・機械油・切削油などの鉱油汚れに対して、極めて優れた洗浄力!を発揮! ■PRTR制度対象化学物質非該当製品*1 *1:「PRTR制度対象化学物質」とは、人や生態系への有害性(...
メーカー・取り扱い企業: エスポ化学株式会社
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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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レジスト剥離液・ドライエッチング残渣除去液『JELKシリーズ』
NMP非含有のレジスト剥離液。バンプ形成時の厚膜レジスト剥離にも好適!
メージが小さく、Al-Cu電極のリフトオフプロセスにも適用が可能です。 さらに、Alドライエッチング後の残渣除去液としても使用が可能です。 【特徴】 ■従来のアミン系剥離液では剥離困難なイオンインプラント後のレジストやドライフィルムレジストも剥離できます。 ■ヒドロキシルアミン、NMPを含みません。 ■IPAリンスは不要のため、水リンスのみで使用が可能です。 ※詳細は弊社HP...
メーカー・取り扱い企業: 関東化学株式会社 電子材料事業本部
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