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PR薄手!柔軟!だから多種多様な形状で使用可能な面状発熱体ヒーターです!
ただ発熱するだけじゃない! 【1】薄くてやわらかいから小型・軽量化に貢献 【2】昇温レスポンスが早いから大幅性能アップ 【3】自由な形状で設計できるから用途が広がる シンワの面状発熱体は、金属箔に電気を流して発熱させる薄いシート状の発熱体です。非常に薄くてやわらかい為、曲面や狭いスペースへの加熱に適しています。さらに回路をエッチングで形成する為、設計者の意図した発熱分布を得ることが...
メーカー・取り扱い企業: シンワ測定株式会社 FE部
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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真空紫外吸収分光法でフッ素ラジカルの絶対密度計測!計測応用もさまざま
【ラジカル計測応用】 ■プラズマ発生ラジカル計測 ・エッチング装置:低誘電率層間絶縁膜エッチング、シリコン酸化膜エッチング、シリコンエッチング ・表面処理装置:撥水膜堆積、誘電体膜、絶縁膜堆積 ・チャンバークリーニング:シリコン、タングステン ■ダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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ガーバー基準二次元自動測定機『MasterSCALE III』
プリント基板の測定!エッジセンサーによる測定者誤差を解消してくれる測定…
解消し、 測定レポート及びExcelデータに出力します。 【特長】 ■LED反射照明と透過照明を標準装備 ■エッジセンサーによる測定者誤差解消 ■Vカットの幅、位置を自動測定 ■エッチングラインのトップ/ボトム自動認識 ■測定結果の自動合否判定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: ダイナトロン株式会社
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TruPlasma Highpulse 4000(G2)シリーズ
数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性!当社の電力供給装置を…
ルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング (スパッタリング前処理)や半導体用途(トレンチ充填)にも 利用できます。 【主な利点】 ■飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減 ■コンパクトな寸法、容易なシステム統合 ...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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高信頼設計の高性能高周波電源
『T857シリーズ』は、オール・ソリッドステート・タイプの 高性能高周波電源です。 プラズマ・エッチング、RIE、プラズマCVD、RFスパッタリング等の 各種プラズマ処理に適します。 また、当シリーズの出力インピーダンスは公称50Ωですが、各種保護回路 により広範囲な負荷及びショート,オ...
メーカー・取り扱い企業: クリエート・デザイン株式会社 クリエート・デザイン株式会社
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エッチングやスパッタ、成膜プロセス中のイオンエネルギーの測定ができます…
検出プローブは電極/基板ホルダーに取付け可能なので、実プロセスと同条件でプラズマの最適化が行えます。各種のバイアス条件(フローティング、DC、パルスDC、RF)下で測定ができます。 プラズマ放電中のプロセス内で以下の測定が可能です。 - イオンエネルギー分布 - イオンフラックス - イオンカレント - エレクトロンフラックスとエネルギー ...・検出プローブは電極/基板ホルダーに...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置
【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、…
株式会社エイ・エス・エイ・ピイ -
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株式会社三條機械製作所