完全自動微量金属汚染物質回収装置『NAC-316』

ICP-MSに対して完全自動立上げ機能持っています

『NAC-316』は、Siウェーハのバルクエッチング機能を持った 完全自動微量金属汚染物質回収装置です。 ICP-MSに対して未経験者でも、分析結果を取得可能。 また、ロードポートを2台持っているため、作業効率は非常に良くなり、 インライン接続（OHT）も可能です。 【特長】 ■親水性ウェーハ・親水性ウェーハ何れも回収が可能 ■ロードポートにセットされたウェーハを自動でバルク...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社NAS技研

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持した...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社