• 酸・金属塩分離装置「リサイター」 製品画像

    酸・金属塩分離装置「リサイター」

    水の使用のみで金属塩と遊離酸を分離します!動画掲載中!

    リサイターは金属を含んだ酸溶液を特殊なイオン交換樹脂で金属塩と遊離酸に分離して、金属塩を排出する装置です。遊離酸の回収には薬品や熱などのエネルギーは必要なく、水を使用するだけなので、大変経済的です。エッチングなど処理液の組成や濃度を一定に保ちます。 *酸処理液の濃度管理の自動化。 *酸処理工程の安定化。 *酸処理液の長寿命化。 *酸消費量の削減。 *廃酸処分費の削減。 *排水処理への負荷...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三進製作所

  • 完全自動微量金属汚染物質回収装置『NAC-316』 製品画像

    完全自動微量金属汚染物質回収装置『NAC-316』

    ICP-MSに対して完全自動立上げ機能持っています

    『NAC-316』は、Siウェーハのバルクエッチング機能を持った 完全自動微量金属汚染物質回収装置です。 ICP-MSに対して未経験者でも、分析結果を取得可能。 また、ロードポートを2台持っているため、作業効率は非常に良くなり、 インライン接続(OHT)も可能です。 【特長】 ■親水性ウェーハ・親水性ウェーハ何れも回収が可能 ■ロードポートにセットされたウェーハを自動でバルク...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社NAS技研

  • サファイア基板エッチング用石英バス ACCUBATH® Xe 製品画像

    サファイア基板エッチング用石英バス ACCUBATH® Xe

    サファイア基板のウェットエッチング用に開発された石英バス 最高300…

    Accubath® Xeはサファイア基板のエッチングを想定してデザインされていますが、私達は、このほかにもより高い温度で処理を行うことにより高いスループットを得られるプロセスがあると考えています。これまでのバスの温度限界による処理の長いプロセスはもう実用的ではないかもしれません。 このモジュールにより、従来は不可能であった超高温でのプロセスが可能となります。 そして、私達は新たな課題に挑戦する...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒロテック 東京営業所

  • フレキシブル基板 剥離剤の比重モニター 製品画像

    フレキシブル基板 剥離剤の比重モニター

    アルカリ液、エタノールなどのを混合した剥離液の比重を高性能密度計で連続…

    フレキシブル基板 :FPC(Flexible Printed Circuits) のエッチング処理中の剥離工程におけるエタノール(アルコール)や、アルカリ水溶液の比重を測定し、制御信号を出力します。...測定原理がエタノールの所定分析にも定められた振動式密度計と同じオンライン密度計です。ノーメンテナンスで毎秒測定結果を出力します。 防爆対応可能、UL規格にも適合しております。 飲料・化学・...

    • LD SensoPico.JPG

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • 排水処理装置・メンテナンス・消耗品 営業のご案内 製品画像

    排水処理装置・メンテナンス・消耗品 営業のご案内

    東栄アクアテック株式会社取扱品目について、営業のご案内

    定期点検、ろ材交換、消耗品・機器(ポンプ・他)、NewF2フィルターろ過脱水機(発生源に設置、水や液の循環再利用(節水・リュース)有価物を回収するコンパクトなろ過脱水機、各種研磨水、金属精錬液、エッチング液の循環ろ過機に使用)、排水処理付帯装置などを取り扱っております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 東栄アクアテック株式会社

  • 排ガス処理セット ES-F1 製品画像

    排ガス処理セット ES-F1

    エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

    塩化第2鉄エッチング液用活性炭が異臭や酸を吸着する、排ガス処理セット...

    メーカー・取り扱い企業: サンハヤト株式会社

  • XWP-プリーツフィルター 製品画像

    XWP-プリーツフィルター

    純水ライン/強酸液/強アルカリ/エッチング液のろ過に相応しい。

    ・特長 ●強酸、強アルカリ及び多くの有機溶媒にも使用可能。 ●自動化製造、プリーツフィルタの低価格を実現。 ●ユースポイントで委託製造、短期納品も可能。 ●ろ材はポリプロピレン/PES/テフロンなど選択可能。...・適用領域 ◆電子・半導体工業:純水、洗浄液、フォトレジスト、メッキ液など。 ◆食品工業:飲料水、ジュース、ビールなど。 ◆化学工業:各種樹脂、表面処理剤、ケミカル薬液など...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社デオボス

  • プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801 製品画像

    プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

    半導体製造工程のプラズマエッチングに好適!消費電力最大93%削減!騒音…

    『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持した...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • XDE-PPデプスフィルター 製品画像

    XDE-PPデプスフィルター

    工業用水/化学薬品/アルコール、飲料/PCBメッキ産業に相応しい。

    ・適用領域 ◆工業用純水、循環水の前ろ過 ◆化学工業ケミカル薬液のプレフィルタ ◆各種塗料、インキの異物除去 ◆電子工業における製造工程でのメッキ液、エッチング液及び洗浄液のろ過 ◆アルコール、清涼飲料水、製薬などの食品工業...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社デオボス

  • プラズマエッチャーチラー NIKOLA3K/5K 製品画像

    プラズマエッチャーチラー NIKOLA3K/5K

    フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…

    『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • 低溶出PTFE膜フィルター『LPFPEシリーズ』 製品画像

    低溶出PTFE膜フィルター『LPFPEシリーズ』

    接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低いメンブレンフィル…

    膜、構成部材に HDPEを使用しており、有機溶剤に優れた耐薬品性を持つフィルターです。 接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低く、 フォトレジスト・レジスト原料・現像液・エッチング液など、 高純度薬液のろ過に適しています。 特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できます。 【特長】 ■ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材にHDPEを使用 ■有機溶剤に...

    メーカー・取り扱い企業: 日本コベッタ株式会社

  • 温度制御チラー『ThermoRack1201』  製品画像

    温度制御チラー『ThermoRack1201』 

    半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…

    『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • 温度制御チラー 『NIKOLA3K/5K』 製品画像

    温度制御チラー 『NIKOLA3K/5K』

    フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…

    『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • 消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1801』 製品画像

    消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1801』

    半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…

    『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • 消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1201』 製品画像

    消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1201』

    半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…

    『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』 製品画像

    フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

    フロンガス不使用のペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに…

    『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』 製品画像

    プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

    半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…

    『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85%の能力を維持したまま稼働し...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • 消費電力大幅削減!ペルチェチラー 『NIKOLA3K/5K』 製品画像

    消費電力大幅削減!ペルチェチラー 『NIKOLA3K/5K』

    フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…

    『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • フロン対策はお済みですか? 『NIKOLA3K/5K』 製品画像

    フロン対策はお済みですか? 『NIKOLA3K/5K』

    フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…

    『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに...

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