高性能レーザ溶接加工機 TruLaser Weld 5000

PRお客様のご要望に合わせてカスタマイズが可能！多様性に優れた高性能レーザ…

『TruLaser Weld 5000』は、1つのシステムで無数のメリットを有する 高性能レーザ溶接加工機です。 ロボット、レーザ、加工光学系、安全性の高いキャビン、 位置決めユニットが備わっており、すぐに利用を開始できます。 お客様のご要望に合わせてカスタマイズが可能な、多様性に優れたマシンです。 【特長】 ■フレキシブルなレーザ溶接が可能 ■パーツを所定の位置に簡単に固定 ■作業が簡単に...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

回転継手用STCシール

PR高密封タイプの回転用（ロッド専用）PTFE製シール

STCシールは、エスフロン（PTFE）製シールリングとOリングを組み合わせたロッド専用シールです。 ※下記外部リンクより、2D CADデータのダウンロードが可能です。ご利用下さい。...【特徴】 ■エスフロン材質の優れた物理特性を活かし、さらにロッドと接触するシール 　リングの内周面に独特の形状設計をもたせることで 同タイプの従来型 　シールに比べ密封性能を向上させました。 ■空...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社阪上製作所

小型で軽量、低騒音、低振動、コンパクトなノンフロンペルチェチラー

装置に組み込めるコンパクト設計でありながら160W～600W冷却能力と…

200W～600W@20℃(6モデル） ポンプ：1Lpm@0.24MPa～3Lpm＠0.2Mpa(９タイプ) 外寸法(WxDxH)mm：280x320x320 ※製品仕様について詳しくはカタログをダウンロードしてください...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

スマートチラー『ACCELシリーズ』

省エネルギー設計の新型温度制御システムの採用により、省電力と低騒音を実…

【簡単給水操作】 フロントローディング方式の給排水ポートから専用ファンネルを用いて簡単に給水可能 【安全機構】 低水位安全機能（Low Level）が標準装備 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

小型レーザー装置に最適！ペルチェチラー　UCシリーズ

超小型！低振動・低騒音・高い温度安定性。小型レーザー装置の温度制御に最…

●詳しい製品スペックはカタログダウンロードよりご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

℃ 　　　　　　　　　　　　　　 <Low Flow>3400W@20℃ 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

W＠20℃ 加熱能力：3000～3400W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W483×D610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適！

＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適！

0～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社