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PRノイズキャンセル機能で騒音環境下にも対応。検出が困難な水素など、様々な…
気体漏れ検知カメラ『Si2-Pro』『Si2-LD』は、圧縮空気・ガスの漏れを 正確に検出できるハンディ型の産業用音響カメラです。 検出が非常に難しい水素にも対応しており、稼働中に様々な気体の漏れを可視化することができます。 漏れの早期発見によって、エア・ガスのロスが抑えられトータルコストの削減に貢献します。 【特長】 ■リアルタイムで損失コストをシミュレーションし、対応判断をサポート ■ノイ...
メーカー・取り扱い企業: フリアーシステムズジャパン株式会社
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産廃費大幅削減、CO2白煙無し、磁力熱分解処理装置SWP-120
PR燃料不要電気のみ、月額約10万円、有害ガス排出無し、産廃費大幅削減、プ…
石油化学製品、プラスチック、樹脂製品、ウレタン、発泡スチロール、フィルム、シート、固化した塗装ゴミ、ゴム製品、プリント基板、電線、木材、梱包材、紙、売れ残った衣服、軍手、ウェス等ごみを燻焼処理しわずかな灰にしランニングコストが非常に低い、脱炭素社会に適した磁力有機廃棄物燻焼炭化炉装置SWP-120。従来のSWP-120に有った、排気ガスを水で洗浄するスクラバーが無くなり、水が必要なくなったため、屋...
メーカー・取り扱い企業: カッティングエッジ株式会社
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DLCコーティング, DLC装置「低温成膜」「はがれにくい」
プラズマイオン注入方式により、様々な形状の金属、樹脂、ゴム素材にダイヤ…
置を使用し低摩擦なDLC膜を成膜します。 【特徴】 ■複雑形状のワークにも対応可能 ・ワーク自体をプラズマの生成源とすることで形状に沿ってプラズマが形成され、 複雑な形状や内部にもガスが回り込み成膜が可能 ■潤滑性に優れる ・低摩擦係数膜の形成により潤滑性に優れる ■金属、アルミ以外に樹脂やゴムにも成膜可能 ・低温での成膜が可能 ■母材に追従する柔軟性を持たす成膜が...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
密閉式チャンバー内で、ウェハを成膜面を下に向け裏面を吸着した状態で加熱させ、プロセスガスを下部より吹き上げながら成膜するFace-down成膜方式の採用により、低パーティクルで安全かつ高品質な成膜を実現しました。特許取得済のウェハ反り矯正機能により、SiCウェハの様な反りの大きなウェハ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
大型トレーに複数枚ウェハをマニュアル装填し、トレーがディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を往復させ成膜を行います。 常圧CVD(APCVD)の特色はそのまま、手軽に成膜が可能す。 ●納入実績 ・国内外半導体デバイス/オプトデバイスメーカー ・大学/研究機関 ●装...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。 トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
太陽電池の生産ニーズに合致した大量生産を可能にするために、大型ディスパージョンヘッド(ガスノズル)と超高速ダブルアーム搬送機構を搭載しています。 また、太陽電池用薄ウェハ対応のため、特殊ウェハホルダー・ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…
成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3%以内を実現しました。 4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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