• N2プラズマ Visible Plasma 製品画像

    N2プラズマ Visible Plasma

    PRN2リモートプラズマ、N2ダイレクトプラズマ、コロナ、トーチプラズマを…

    当製品は、従来のN2リモートプラズマとエアープラズマの ハイブリッドタイプです。 プラズマの発生を目視で確認可能。 また、10mmまでの長距離照射が可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■コンパクトなヘッド構造 ■プラズマの発生を目視で確認可能 ■10mmまでの長距離照射が可能 ■低温の為熱ダメージを与えない ※詳しくはPDF...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イトー

  • 冷水冷却ユニット『RDHX PRO』 製品画像

    冷水冷却ユニット『RDHX PRO』

    PR最大限の可用性と迅速な修理に対応!より長い寿命と顧客の生産性を保証

    『RDHX PRO』は、データセンターの局所的でエネルギー効率の高い 冷却を実現するよう設計されている冷水冷却ユニットです。 データセンターの局所的でエネルギー効率の高い冷却を実現、 800Wモデルで78kW、600Wモデルで59kWの冷却能力。 ツールレス、ホットスワップ可能なコンポーネントにより、 最大限のアップタイムとより長い寿命と顧客の生産性を保証。 HPCおよび温水冷...

    メーカー・取り扱い企業: エヌヴェントジャパン株式会社 エンクロージャー事業部

  • 卓上型/スタンドアローン 大気圧プラズマ装置 製品画像

    卓上型/スタンドアローン 大気圧プラズマ装置

    シンプルな卓上型の大気圧プラズマ装置やダイレクト方式の装置など豊富に掲…

    。 前後スライドステージによるシンプルな卓上型の大気圧プラズマ装置 「MyPLシリーズ」をはじめ、スタンドアローンタイプの「ILPシリーズ」や キャリアガスに不活性のアルゴンを使用したダイレクト方式のプラズマ装置、 アルゴンガスを使用した大気圧プラズマのヘッドユニット「MDシリーズ」 などを取り扱っております。 また、曲面・凹凸のあるワークへの照射が可能なN2を使用したバータ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イトー

  • ダイレクト式大気圧プラズマ装置D300-TB※インライン処理可能 製品画像

    ダイレクト式大気圧プラズマ装置D300-TB※インライン処理可能

    ダイレクト式の大気圧プラズマ装置でフィルム両面を連続で表面処理が可能。…

    ダイレクト式の大気圧プラズマ装置! 高い処理能力で空気をプラズマ化する事でランニングコストが安価です。図に示すようロールtoロールでフィルムの連続処理が可能になります。その他コンベアーなどと組み合わせる事によりガラスや樹脂成型品等、様々な材料にご利用頂けます。大面積処理が可能1m幅の処理も可能です。 まずは無償デモ処理にて効果をお試し下さいませ。 ※詳細はカタログをダウンロード頂くか直接お...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 真空浸炭法『ダイレクト浸炭(Multi Carbo)』 製品画像

    真空浸炭法『ダイレクト浸炭(Multi Carbo)』

    ガス浸炭と真空技術を融合!雰囲気に酸素成分を含まず粒界酸化無し、仕上肌…

    ダイレクト浸炭(Multi Carbo)』は、ガス浸炭と真空の技術を 融合させて生まれた新しいコンセプトの浸炭法です。 本技術は真空(減圧)を利用することにより、キャリヤガスを極端に減らし、 浸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本テクノ

  • ロータリードラム方式潤滑処理装置 製品画像

    ロータリードラム方式潤滑処理装置

    ランニングコストが低い!直線型、またはL字型、コの字型でレイアウト可能…

    工程、ドラム・槽の 長さなどはお客様の仕様に合わせて設計・製作致しますので、装置自体、 同一のものはなくお客様によって様々な形となります。 バレル方式の装置などとは異なり、ワークのみのダイレクト搬送ですので 薬液・水などの持ち運び、劣化が少なくて済みます。 【特長】 ■装置全体が密閉構造 ■ガス・湯気等が装置外に出ず床に薬液などが飛び散ることもない ■動作音も静か ■ワ...

    メーカー・取り扱い企業: ニップ工業株式会社

  • HSGB型ハイスピードガスバーナ 製品画像

    HSGB型ハイスピードガスバーナ

    小型・軽量でスリムなタイルレス!火炎速度が高速、中速、低速、自由自在な…

    『HSGB型ハイスピードガスバーナ』は、小型・軽量でスリムなタイルレスの ダイレクト点火式ガスバーナです。 火炎速度が高速から低速まで自由に選べ、低空気比燃焼から超過剰空気燃焼まで 使用できます。 また、取付が簡単でメンテナンスが容易なため、様々な炉設備の熱源とし...

    メーカー・取り扱い企業: 中外炉工業株式会社

  • 【加工技術】真空浸炭焼入(ダイレクト浸炭) 製品画像

    【加工技術】真空浸炭焼入(ダイレクト浸炭)

    表面層の粒界酸化や浸炭ムラが無いので、細孔内面も可能!品質向上が望めま…

    『真空浸炭焼入』とは、真空炉内にて行う浸炭焼入方法です。 炉内に供給したアセチレンガスが熱分解し、発生した炭素が表面より 浸透・拡散。浸炭の効果に加え、表面層の粒界酸化や浸炭ムラが無いので、 細孔内面も可能です。 また、光輝色で仕上がる為、通常の浸炭焼入に比べ、品質向上が望めます。 【特長】 ■真空炉内にて行う浸炭焼入方法 ■浸炭の効果に加え、表面層の粒界酸化や浸炭ムラが...

    メーカー・取り扱い企業: 遠州熱研有限会社

  • 堅型真空&加圧熱処理炉『CAVAC』 製品画像

    堅型真空&加圧熱処理炉『CAVAC』

    ダイレクト排気で処理物質内雰囲気がクリーンに!均一雰囲気・均一加熱・均…

    CAVACは、7つの「実現」を叶える真空炉です。 1.特殊ダイレクト排気機構・タイトボックスレス構造の採用  →安定した、クリーンな処理雰囲気を実現 2.タイトボックスレス構造  →加熱・冷却負荷の低減による、省エネルギーを実現 3.竪型構造・蓋開閉機構...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トウネツ 東海事業所

  • 大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案 製品画像

    大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案

    大気圧、ダウンストリーム型プラズマを用いることにより表面ダメージ等を排…

    アップダメージ) (6)アーク及びストリーマ (7)熱(処理中) 処理形態やワークによってそのダメージは、一種のメリットになる可能性もあり、例えば、使用電極構造にもよるが、プラナー型(ダイレクト型)電極の場合、プラズマ発生時のストリーマ(微小アーク)やイオン衝突等により、ワーク表面に粗化を与え、結果的にアンカー効果により密着性の向上につながる場合もあります。  ※詳細はPDFをダ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置 製品画像

    平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置

    各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基(親水、親油、密着性…

    完備、随時プロセス評価実験をお受けいたします。 技術紹介プレゼン,プラズマ応用相談も行っております。 詳しくは弊社営業部までお気軽にお問合せください。 【応用例】 ○難めっき樹脂へのダイレクト銅めっきを実現 ○樹脂と金属の接着剤レス接合を実現 ○接着剤との接着強度向上 ○レーザー加工後のスミア除去(デスミア処理) ○フッ素系樹脂の親水化,接着性向上 ○半田,ボンデイングなど...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • 光学薄膜用スパッター装置 HELIOS 製品画像

    光学薄膜用スパッター装置 HELIOS

    ビューラー・ライボルトオプティクスの光学用スパッター装置

    active Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。 ・MF(中周波)電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。 ・膜厚制御はダイレクトモニターリング方式による高精度な制御が可能。 ・200層以上および20ミクロン厚の多層膜厚のフィルターが作成可能。 ・Co-Sputtering技術により中間屈折率のチューニングが可能。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ビューラー株式会社

  • 精密光学用イオンビームスパッター装置 IBS1400/1600 製品画像

    精密光学用イオンビームスパッター装置 IBS1400/1600

    ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

    トオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3% の範囲内で膜厚分布を実現いたします。 詳細はお気軽にお問合せください。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ビューラー株式会社

  • 卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置  製品画像

    卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置

    Arradiance社製卓上型ALD装置 卓上型ながらプラズマユニット…

    までの構造物、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度 低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き 試料ステージは直径200mm基板まで選択可能 450℃加熱ステージも...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイチ・ティー・エル HTL(エイチティーエル)

  • SAP・MSAP・エニーレイヤー工程における JCU提案プロセス 製品画像

    SAP・MSAP・エニーレイヤー工程における JCU提案プロセス

    過酸化水素/硫酸系エッチング装置に適応のエッチングプロセス

    【その他のプロセス】 ■Cuダイレクトレーザー対応 前・後処理プロセス ■DFR現象残渣除去プロセス ■MSAP用回路形成エッチングプロセス ■SAP回路形成エッチングプロセス ■DFR剥離プロセス ■SAP微細回路形成に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社JCU 本社

  • 大槻工業株式会社 会社概要 製品画像

    大槻工業株式会社 会社概要

    多様化するニーズに精密塗工技術でお手伝い!フィルム材料の表面処理等の加…

    【設備】 ■ダイレクトグラビアコーター(遠赤外線方式):10台 ■ダイレクトグラビア・リバースコーター(熱風フロート方式):1台 ■フイルムアニール加工機:1台 ■コロナ放電処理機:5台 ■リワインド検反機:...

    メーカー・取り扱い企業: 大槻工業株式会社

  • 製鋼用燃焼設備 製品カタログ 製品画像

    製鋼用燃焼設備 製品カタログ

    タンディッシュ予熱装置やRH脱ガス槽予熱装置など!製鋼用燃焼設備を多数…

    当カタログは、中外炉工業株式会社が取り扱う『製鋼用燃焼設備』を掲載しております。 大幅な省エネを実現した「省エネバーナ搭載 取鍋予熱/乾燥装置」をはじめ、 メインダイレクト点火型ハイスピードバーナ搭載の「タンディッシュ予熱装置」など 多数ラインアップ。 その他に、竪門型や横台車型、竪スイング型などの装置レイアウト例もご紹介しています。 【掲載内容(抜...

    メーカー・取り扱い企業: 中外炉工業株式会社

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