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PR自社製造の円筒状で小さい粒(Φ3mm)状のドライアイス
『ドライアイスペレット』は、円筒状で小さい粒(Φ3mm)のドライアイスです。 弊社では本社工場に製造装置(ペレタイザー)を導入しています。 ドライアイスブラスト(洗浄装置)の普及により需要も増えています。 小粒の形状なので冷熱を効率よく商品に与えることが可能。 角型のスライスタイプに比べ、必要量の調整が簡単。 角がなく、丸みのある形状のため、商品が傷つきません。 ドライアイ...
メーカー・取り扱い企業: 宮原酸素株式会社
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PRCNTを用いることで導電助剤量を低減し、活物質の含有量を向上!
『電池用カーボンナノチューブ/ポリフッ化ビニリデン 複合材』は、 分散処理済みのCNTをPVDFに添加した粉末です。 CNTを用いることで導電助剤量を低減し、活物質の含有量を向上。 ドライプロセス電極への適応も可能です。 【特長】 ■分散処理済みのCNTをPVDFに添加した粉末 ■CNTを用いることで導電助剤量を低減し、活物質の含有量を向上 ■ドライプロセス電極への適応も可能 ※詳しくはP...
メーカー・取り扱い企業: 日本資材株式会社
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小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…
面実装タイプの受動電子部品(抵抗器・コンデンサ)などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自の成膜...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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H2(水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…
による有機物除去後H2プラズマクリーニングによる表面還元クリーニング(表面酸化層除去)のSTEPクリーニング。 プラズマのイオンによる物理洗浄効果と水素還元能力を両立。 従来に無い効果をもつ新ドライ洗浄装置...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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非球面レンズのDLC膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…
250mm□の処理ステージに均一なプラズマを実現したプラズマクリーニング装置。 従来機「POEM」よりイオンエネルギーを向上。より強いイオン衝撃とO2イオンでDLCを除膜。ドライプロセスで基板ダメージと廃液処理の不要なクリーンプロセスを実現。 プラズマエッチングで蓄積されたマルチガスプロセスで多様なDLC膜の除去に対応するとともに微細加工モールドの作成にも実績。DLCだ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現!スパッタカソードを標準装備していま…
【DLC膜の特長】 ■摺動部品 ・高硬度 ・低摩擦係数=0.1 ・低い相手攻撃性 ■切削工具、金型 ・耐摩耗性 ・非溶着性 ・ドライ加工 ■光学部品 ・赤外通過性 ・屈折率=2 ・表面平滑性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…
処理、下地硬化からコーティングまで高品質一貫処理。 本装置(アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置)の水素フリーDLC膜(ADMSーCN膜)は今までのDLC(硬質膜形成)にとどまらない新たなドライプロセスとしてプラズマ表面処理技術新たな可能性を大きく拡げています。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…
カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理にも実績豊富。 電子デバイスだけでな半導体製造装置部品や材料などくクリーンネスと繊細な表面処理が求められる大型製品の処理にも最適な新型ドライプロセスツール...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により6インチウェハまで対応。 水素雰囲気還元熱処...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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