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金型などの洗浄「ドライアイス洗浄とは?」※ホワイトペーパー進呈中
PR母材を傷つけない、高効率・低コストの新しい洗浄技術。6種類の洗浄方法の…
『ドライアイスブラスト洗浄』は、圧縮エアで噴射したドライアイスが 母材と汚れの間に入り込み、昇華時に約800倍に膨張する爆発力を用いて、 母材を傷つけることなく汚れを除去できます。 【特長】 ■非研磨なので母材を傷つけない ■薬剤不使用なので環境負荷が低い (二次廃棄物がなく、有害物質などもない) ■効率よく洗浄できるのでダウンタイムなし ★現在、プラスチック・ゴム部品な...
メーカー・取り扱い企業: Cold Jet
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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時代はY2O3からYOFへ!エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…
イオンアシスト蒸着法によるYOF膜(酸フッ化イットリウム膜)は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留ま...
メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム
イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…
化イットリウム)膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置のRFウィンドウの再生市場価格1/2実現 ...
メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によ...
メーカー・取り扱い企業: つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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